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외부로부터 배기가스가 유입되며 관통홀이 형성된 헤드부;상기 헤드부의 전단에 결합되며 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하며 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀이 형성되는 이젝터부;상기 관통홀을 통해 상기 제1토출홀에 삽입되고, 상기 제1토출홀을 통해 상기 1차 희석공기가 이동하여 상기 이젝터부 전단의 압력 강하로 상기 헤드부에 유입된 배기가스를 제2토출홀을 통해 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부;상기 이젝터부의 전단에 결합되며 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 배출되는 1차 희석가스에 2차 희석공기를 공급하여 2차 희석가스를 생성하는 희석부; 및상기 헤드부의 후단에 형성되고, 유입되는 상기 배기가스의 유속을 감속시켜 정체 공기를 형성하여 상기 헤드부에 유입시키는 정체공기 형성부를 포함하는 배기가스 희석장치
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제 1 항에 있어서,상기 정체공기 형성부는 상기 배기가스가 유입되는 유입홀이 형성되며 상기 배기가스가 유동하는 방향을 따라 반경이 점차적으로 커지는 디퓨져부를 포함하는 배기가스 희석장치
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제 2 항에 있어서, 상기 정체공기 형성부는 상기 디퓨져부를 통해 감속된 배기가스가 체류하며 유동 방향을 따라 배기가스를 유출시키는 유출홀이 형성된 공기 체류부; 및상기 공기 체류부에 직교하는 방향으로 연장 형성되어 상기 헤드부를 향하여 상기 배기가스를 토출하는 샘플링 유출부를 더 포함하는 배기가스 희석장치
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제 1 항에 있어서,상기 정체공기 형성부와 상기 헤드부 사이에 형성되어 상기 배기가스를 예열하는 예열부를 더 포함하는 배기가스 희석장치
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제 4 항에 있어서,상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 배기가스 희석장치
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제 1 항에 있어서, 상기 헤드부의 전방에 구비되고, 상기 외부에서 유입되는 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하는 분리부를 더 포함하는 배기가스 희석장치
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