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산성 전해액을 내부에 수용하는 제1전해액탱크;염기성 전해액을 내부에 수용하는 제2전해액탱크;바나듐 전해액을 내부에 수용하는 제3전해액탱크;상기 제1전해액탱크와 일측편이 연결되어, 내부에 형성된 유로를 따라 산성 전해액을 순환시키고, 상기 제3전해액탱크와 타측편이 연결되어, 내부에 형성된 유로를 따라 바나듐 전해액을 순환시키면서, 수소 환원반응과 바나듐 산화반응을 일으키는 제1셀모듈; 및상기 제2전해액탱크와 일측편이 연결되어, 내부에 형성된 유로를 따라 염기성 전해액을 순환시키고, 상기 제3전해액탱크와 타측편이 연결되어, 내부에 형성된 유로를 따라 바나듐 전해액을 순환시키면서, 물 산화반응과 바나듐 환원반응을 일으키는 제2셀모듈;을 포함하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 1에 있어서,상기 제1셀모듈은상기 제1전해액탱크와 산성 전해액이 유동하는 튜브로 연결되고, 선택적으로 산성 전해액을 순환시키면서 수소 환원반응을 일으키는 수소환원반응부와;상기 제3전해액탱크와 바나듐 전해액이 유동하는 튜브로 연결되고, 선택적으로 바나듐 전해액을 순환시키면서 바나듐 산화반응을 일으키는 바나듐산화반응부;를 포함하고, 상기 수소환원반응부와 바나듐산화반응부는 음이온만을 통과시키는 제1음이온교환막을 중심에 두고 서로 인접하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 2에 있어서,상기 수소환원반응부는산성 전해액이 유입되는 제1유입구와, 전해액이 유출되는 제1유출구를 일정 거리로 이격 형성한 제1커버부재와;상기 제1커버부재에 면접하고, 내부에는 상기 제1유입구를 통해 유입된 산성 전해액이 유동하는 제1유로 및 유입된 산성 전해액이 체류하는 제1챔버를 형성한 제1프레임부재와;상기 제1프레임부재의 제1챔버에 수용되는 제1전극판과;상기 제1전극판과 면접하면서 상기 제1챔버에 수용되는 제1니켈폼과;상기 제1프레임부재와 면접하여 상기 제1프레임부재의 제1유로 및 제1챔버를 밀폐하는 제1가스켓부재;를 포함하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 2에 있어서,상기 바나듐산화반응부는바나듐 전해액이 유입되는 제2유입구와, 바나듐 전해액이 유출되는 제2유출구를 일정 거리로 이격 형성한 제2커버부재와;상기 제2커버부재에 면접하고, 내부에는 상기 제2유입구를 통해 유입된 바나듐 전해액이 유동하는 제2유로 및 유입된 바나듐 전해액이 체류하는 제2챔버를 형성한 제2프레임부재와;상기 제2프레임부재의 제2챔버에 수용되는 제2전극판과;상기 제2전극판과 면접하면서 상기 제2챔버에 수용되는 제1카본펠트와;상기 제2프레임부재와 면접하여 상기 제2프레임부재의 제2유로 및 제2챔버를 밀폐하는 제2가스켓;을 포함하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 4에 있어서,상기 제2셀모듈은상기 제2전해액탱크와 전해액이 유동하는 튜브로 연결되고, 선택적으로 염기성 전해액을 순환시키면서 물 산화반응을 일으키는 물산화반응부;상기 제3전해액탱크와 전해액이 유동하는 튜브로 연결되고, 선택적으로 바나듐 전해액을 순환시키면서 바나듐 환원반응을 일으키는 바나듐환원반응부;를 포함하고, 상기 물산화반응부와 바나듐환원반응부는 음이온만을 통과시키는 제2음이온교환막을 중심에 두고 서로 인접하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 5에 있어서,상기 물산화반응부는염기성 전해액이 유입되는 제3유입구와, 전해액이 유출되는 제3유출구를 일정 거리로 이격 형성한 제3커버부재;상기 제3커버부재에 면접하고, 내부에는 상기 제3유입구를 통해 유입된 염기성 전해액이 유동하는 제3유로 및 유입된 염기성 전해액이 체류하는 제3챔버를 형성한 제3프레임부재와;상기 제3프레임부재의 제3챔버에 수용되는 제3전극판과;상기 제3전극판과 면접하면서 상기 제3챔버에 수용되는 제2니켈폼과;상기 제3프레임부재와 면접하여 상기 제3프레임부재의 제3유로 및 제3챔버를 밀폐하는 제3가스켓부재;를 포함하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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청구항 5에 있어서상기 바나듐환원반응부는바나듐 전해액이 유입되는 제4유입구와, 바나듐 전해액이 유출되는 제4유출구를 일정 거리로 이격 형성한 제4커버부재와;상기 제4커버부재에 면접하고, 내부에는 상기 제4유입구를 통해 유입된 바나듐 전해액이 유동하는 제4유로 및 유입된 바나듐 전해액이 체류하는 제4챔버를 형성한 제4프레임부재와;상기 제4프레임부재의 제4챔버에 수용되는 제4전극판과;상기 제4전극판과 면접하면서 상기 제4챔버에 수용되는 제2카본펠트와;상기 제4프레임부재와 면접하여 상기 제4프레임부재의 제4유로 및 제4챔버를 밀폐하는 제4가스켓;을 포함하는 바나듐 연속 플로우 시스템을 이용한 과전압이 낮은 비대칭 수전해 시스템
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