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자가치유 광활성층 형성용 조성물

  • 기술번호 : KST2022007846
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자가치유 기능을 갖는 자가치유 광활성층 형성용 조성물에 관한 것으로, 분자간 결합에 의해 상온 뿐만 아니라 100 ℃ 이상의 고온에서 열처리 되더라도 자가-치유(self-healing)가 가능하며, 용액공정시에도 최적화된 모폴로지를 형성하면서도 강한 수소결합을 형성하므로, 고유의 전기적 특성의 저하없이 우수한 기계적 성능 및 자가치유 성능을 가질 수 있다.
Int. CL C08G 61/12 (2006.01.01) C08L 65/00 (2006.01.01)
CPC C08G 61/126(2013.01) C08L 65/00(2013.01) C08G 2261/3243(2013.01) C08G 2261/3223(2013.01) C08G 2261/143(2013.01) C08G 2261/146(2013.01) C08G 2261/91(2013.01)
출원번호/일자 1020200163636 (2020.11.30)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0075503 (2022.06.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.10.15)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 손해정 서울특별시 성북구
2 윤성원 서울특별시 성북구
3 박성민 서울특별시 성북구
4 신을용 서울특별시 성북구
5 김재경 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2020-1287981-68
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2021.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2021-1181820-19
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 자가치유 기능을 갖는 공액 고분자를 포함하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 내지 R5는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐기, 시아노기, 아민기, 하이드록실기, 이미드기, 아미드기, 에스터기, 케톤기, 싸이오에스터기, 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 고급 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 35의 알킬티오닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알키닐기, 치환 또는 비치환되고 S, N, O, P 및 Si 중에서 어느 하나 이상을 포함하는 탄소수 2 내지 50의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 50의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 4 내지 20의 헤테로고리기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고,R6은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기 중에서 선택되는 어느 하나이며,상기 x는 0
2 2
제1항에 있어서,상기 R1, R2, R4, R5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 25의 알킬티오닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 고급 알킬기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 4 내지 20의 헤테로고리기 중에서 선택되는 어느 하나이고,상기 R3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 고급 알킬기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기 중에서 선택되는 어느 하나이며,상기 R6은 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
3 3
제1항에 있어서,상기 공액 고분자는 하기 화학식 1a로 표시되는 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물:[화학식 1a]상기 화학식 1a에서,상기 R3은 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기 중에서 선택되는 어느 하나이고,상기 R7, R7', R8, R8', R9, R9', R10, R10'는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 고급 알킬기 중에서 선택되는 어느 하나이며,상기 R6 은 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기 중에서 선택되는 어느 하나이며,상기 x는 0
4 4
제3항에 있어서,상기 화학식 1a에서,상기 R7은 R9와 동일하고, 상기 R8은 R10과 동일하며, 상기 R7'은 R9'와 동일하고, 상기 R8'은 R10'과 동일하거나; 또는 R7은 R7'와 동일하고, 상기 R8은 R8'와 동일하며, 상기 R9는 R9'와 동일하고, 상기 R10은 R10'와 동일하거나; 또는 상기 R7은 R9, R7' 및 R9'와 동일하고, 상기 R8은 R10, R8'및 R10'과 동일한 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
5 5
제4항에 있어서,상기 화학식 1a에서,상기 R3은 수소, 메틸기 및 에틸기 중에서 선택되는 어느 하나이고,상기 R7은 R9, R7' 및 R9'는 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기이고, 상기 R8은 R10, R8'및 R10'는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
6 6
제1항에 있어서,상기 공액 고분자는 하기 화학식 1b로 표시되는 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물:[화학식 1b]상기 화학식 1b에서,상기 x는 0
7 7
제5항에 있어서,상기 화학식 1b에서, x는 0
8 8
제1항에 있어서,상기 조성물은 용매를 더 포함하며, 상기 용매는 다이메틸포름아마이드, 다이클로로메탄, 클로로포름, 헥산, 사이클로헥산, 톨루엔, 자일렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 에틸렌아세테이트, 테트라히드로퓨란 및 N-메틸리롤리디논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
9 9
제1항에 있어서,상기 조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 단분자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
10 10
제9항에 있어서,상기 화학식 1의 공액 고분자 1 중량부를 기준으로, 상기 화학식 2로 표시되는 단분자가 0
11 11
제1항에 있어서,상기 조성물은 n 형 고분자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
12 12
제11항에 있어서,상기 n 형 고분자는 3,9-비스(2-메틸렌-(3-(1,1-다이시아노메틸렌)-인다논))-5,5,11,11-테트라키스(4-헥실페닐)-다이티아노[2,3-d:2',3'-d']-s-인다세노[1,2-b:5,6-b']다이티오펜(ITIC), 3,9-bis(2-methylene-(5,6-difluoro-3-oxo-2,3-dihydro-1H-inden-1-ylidene)malononitrile)-5,5,11,11-tetrakis(4-hexylphenyl)-dithieno[2,3-d:2′,3′-d′]-s-indaceno[1,2-b:5,6-b′]dithiophene (IT-4F) (5Z,5'Z)-5,5'-(((4,4,9,9-tetraoctyl-4,9-dihydro-s-indaceno[1,2-b:5,6-b']dithiophene-2,7-diyl)bis(benzo[c][1,2,5]thiadiazole-7,4-diyl))bis(methanylylidene))bis(3-ethyl-2-thioxothiazolidin-4-one) (O-IDTBR), 2,2'-((2Z,2'Z)-(((4,4,9,9-tetrakis(4-hexylphenyl)-4,9-dihydro-sindaceno[1,2-b:5,6-b']dithiophene-2,7-diyl)bis(4-((2-ethylhexyl)oxy)thiophene-5,2- diyl))bis(methanylylidene))bis(5,6-difluoro-3-oxo-2,3-dihydro-1H-indene-2,1-diylidene))dimalononitrile (IEICO-4F) 5,5'-(9,9'-spirobi[fluorene]-2,7-diyl)bis(2,9-dimethylanthra[2,1,9-def:6,5,10-d'e'f']diisoquinoline-1,3,8,10(2H,9H)-tetraone) (SF-PDI2), (2,20-((2Z,20Z)-((12,13-bis(2-ethylhexyl)-3,9-diundecyl-12,13-dihydro-[1,2,5]thiadiazolo[3,4-e]thieno[2,"3':4',5']thieno[2',3':4,5]pyrrolo[3,2-g]thieno[2',3':4,5]thieno[3,2-b]indole-2,10-diyl)bis(methanylylidene))bis(5,6-difluoro-3-oxo-2,3-dihydro-1H-indene-2,1-diylidene))dimalononitrile) (Y6), (6,6)-페닐-C61-부티릭에시드 메틸에스테르(C60-PCBM), (6,6)-페닐-C71-부티릭에시드 메틸에스테르(C70-PCBM), 비스(1-[3-(메톡시카르보닐)프로필]-1-페닐)(Bis-C60-PCBM), 3'-페닐-3'H-시클로프로파(8,25)(5,6)플러렌-C70-비스-D5h(6)-3'-부티르산 메틸 에스테르(Bis-C70-PCBM), 인덴-C60-비스어덕트(ICBA), 모노인덴닐C60(ICMA) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자가치유 광활성층 형성용 조성물
13 13
제1항에 따른 자가치유 광활성층 형성용 조성물을 포함하는 유기태양전지
지정국 정보가 없습니다
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순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 중견연구자지원사업 자가치유 특성의 에너지 하베스트형 전도성 고분자 소재 및 이를 이용한 고성능 유기태양전지 개발
2 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 소재혁신선도사업 롤러블 광전소자용 인쇄공정 기반 안정성 확보 기술 개발
3 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 나노미래소재원천기술개발사업 고안정성 스트레처블 유기태양전지 핵심기술 및 모듈 개발