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실라잔계 단위 및 실록산계 단위를 분자 내에 포함하는, 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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제1항에 있어서,상기 실라잔계 단위는, 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2 는 각각 독립적으로 히드록시기(-OH), 클로로기(-Cl) 또는 1차 아민기(-NH2)이고,n1 은 1 내지 10,000의 정수이다
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3
제1항에 있어서,상기 실라잔계 단위는, 분자량 1,000 내지 500,000 인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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4
제1항에 있어서,상기 실라잔계 단위의 구조는, 선형, 가지형, 고리형 혹은 이들의 혼합형인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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5
제4항에 있어서,상기 실라잔계 단위의 구조는, 고리형을 1 mol% 내지 70 mol% 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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6
제1항에 있어서,상기 실록산계 단위는, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 2]상기 화학식 2에서,R3 및 R4 는 -H, (CH2)xCH3(x는 0 내지 20의 정수) 또는 클로로기(-Cl) 이고,n2 는 1 내지 2,000의 정수이다
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7
제1항에 있어서,상기 실록산계 단위는, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 3]상기 화학식 3에서, R5 및 R6은 -H, -(CH2)xCH3(x는 0 내지 20의 정수) 또는 클로로기(-Cl) 이고,a 및 b는 각각 독립적으로 1 내지 20의 정수이고, n3 및 n4는 각각 1 독립적으로 1 내지 2,000의 정수이다
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8
제7항에 있어서,상기 실록산계 단위는, 액체 상태의 선형, 가지형, 고리형 또는 이들의 혼합형인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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9
제1항에 있어서,상기 실록산계 단위는, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 4]상기 화학식 4에서,R7 및 R8은 각각 독립적으로 -H, -(CH2)xCH3(x는 0 내지 20의 정수) 또는 클로로기(-Cl) 이고,a, b 및 c는 각각 독립적으로 1 내지 20의 정수이고, n5 내지 n7은 각각 독립적으로 1 내지 2,000의 정수이다
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10
제9항에 있어서,상기 실록산계 단위는, 액체 상태의 선형, 가지형, 고리형 또는 이들의 혼합형인 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체
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11
제1항에 있어서,상기 실록산계 단위 및 상기 실라잔계 단위는 0
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12
제1항에 있어서,상기 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체는, 하기 화학식 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 5]상기 화학식 5에서,R9는 아미노기, 클로로기 또는 하이드록시기이고,R10은 에테르기(-O-) 또는 2차 아민기(-NH-)이고,R11은 수소기(-H) 또는 실라잔기(-SiH2NH-)이고,n8은 1 내지 10,000의 정수이고,n9는 1 내지 2,000의 정수이다
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13
제1항에 있어서,상기 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체는, 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 6]상기 화학식 6에서,R12는 아미노기, 클로로기 또는 하이드록시기이고,R13은 에테르기(-O-) 또는 2차 아민기(-NH-)이고,R14는 수소기(-H) 또는 실라잔기(-SiH2NH-)이고,a 및 b는 각각 독립적으로 1 내지 20의 정수이고, n10은 1 내지 10,000의 정수이고,n11 및 n12는 각각 1 내지 2,000의 정수이다
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14
제1항에 있어서,상기 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체는, 하기 화학식 7로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체:[화학식 7]상기 화학식 7에서,R15는 아미노기, 클로로기 또는 하이드록시기이고,R16은 에테르기(-O-) 또는 2차 아민기(-NH-)이고,R17은 수소기(-H) 또는 실라잔기(-SiH2NH-)이고,a, b 및 c는 각각 독립적으로 1 내지 20의 정수이고, n13은 1 내지 10,000의 정수이고,n14 내지 n16은 각각 독립적으로 1 내지 2,000의 정수이다
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15
제1항에 따른 폴리실록산을 포함하는 폴리실라잔 공중합체, 용매, 첨가제, 무기 전구체 및 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물
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16
제15항에 있어서,상기 촉매는, 1차 아민계, 2차 아민계, 3차 아민계 또는 백금계 촉매를 포함하고, 상기 코팅용 조성물 대비 1 PHR 내지 30 PHR로 제공되는 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물
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17
제15항에 있어서,상기 무기 전구체는, 지르코늄 산화물, 티타늄 산화물, 마그네슘 산화물, 제올라이트 및 이들의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물
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18
제15항에 있어서,상기 첨가제는, 산화방지제, UV 흡수제 및 이들의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물
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19
기판 및 제15항의 코팅용 조성물을 준비하는 단계;상기 코팅용 조성물을 상기 기판상에 도포하는 단계; 및상기 코팅용 조성물이 도포된 기판을 경화하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 코팅 필름의 제조방법
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20
제19항에 있어서,상기 코팅용 조성물을 기재에 도포하는 단계는 담지법, 함침법, 및 스피닝, 슬롯다이, 마이크로 그라비아, 그라비아 및 스프레이를 이용한 분사법으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나를 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 내염기성이 향상된 코팅 필름의 제조방법
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21
제19항에 있어서,상기 코팅용 조성물을 기재에 도포하는 단계는 상기 기재를 500rpm 내지4,000rpm으로 회전하며 상기 코팅용 조성물을 1초 내지 20분 동안 분사하는 것을 특징으로 하는 내염기성이 향상된 코팅 필름의 제조방법
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22
제19항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 펄스 UV 조사, 암모니아수 노출, 과산화수소수 노출 또는 열처리에 의해 상기 코팅용 조성물을 경화하는 것을 특징으로 하는 내염기성이 향상된 코팅 필름의 제조방법
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23
제19항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 화학적 분위기 하의 스팀법 또는 함침법에 의한 가열에 의해 상기 코팅용 조성물을 경화하는 것을 특징으로 하는 내염기성이 향상된 코팅 필름의 제조방법
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24
제22항에 있어서, 상기 펄스 UV 조사는 1,000 V 내지 4,000 V, 5 Hz 내지 50 Hz 및 150 nm 내지 450 nm 파장에서 0
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25
제22항에 있어서,상기 암모니아수 노출은 15 ℃ 내지 35 ℃에서 5중량% 내지 35중량%의 암모니아수를 이용하여 12시간 내지 120시간 수행하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름의 제조방법
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제22항에 있어서, 상기 과산화수소수 노출은 15 ℃ 내지 100 ℃에서 5중량% 내지 50중량%의 과산화수소수를 이용하여 12시간 내지 120시간 수행하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름의 제조방법
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제19항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계 다음에 상기 코팅 필름을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름의 제조방법
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28
제27항에 있어서,상기 열처리단계는 70℃ 내지 120℃의 온도조건 하에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름의 제조방법
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제19항의 제조방법에 따라 제조되는 내염기성이 향상된 코팅 필름
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