| 1 |
1
폴리실라잔계 코팅 소재에 있어서,폴리실라잔계 수지 조성물; 및 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물;을 포함하되,상기 폴리실라잔계 수지 조성물은, 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 히드록시기 (-OH), 클로로기 (-Cl) 또는 1차 아민기 (-NH2)이고,n1 은 1 내지 10,000의 정수이다
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 폴리실라잔계 수지 조성물은, 분자량 1,000 내지 500,000인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 폴리실라잔계 수지 조성물의 구조는 선형, 가지형, 고리형 혹은 이들의 혼합형인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 폴리실라잔계 수지 조성물의 구조는 고리형을 1 mol% 내지 70mol% 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 하기 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재:[화학식 3]상기 화학식 3에서,n5는 1 내지 50의 정수이고,R6 및 R7은 각각 독립적으로 (CH2)xCH3(x는 0 내지 20의 정수)이다
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 하기 화학식 3-1으로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재:[화학식 3-1]상기 화학식 3-1에서,n6은 1 내지 50의 정수이다
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 분자량 500 내지 5000인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 상기 폴리실라잔계 수지 조성물 100중량부 당 10 PHR(parts per hundred resin) 내지 50 PHR로 첨가되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,용매, 첨가제, 무기 전구체 및 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 촉매는, 1차 아민계, 2차 아민계, 3차 아민계 또는 백금계 촉매를 포함하고, 상기 폴리실라잔계 수지 조성물 대비 1 PHR 내지 30 PHR로 제공되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 11 |
11
제9항에 있어서,상기 무기 전구체는, 지르코늄 산화물, 티타늄 산화물, 마그네슘 산화물, 제올라이트 및 이들의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 12 |
12
제9항에 있어서,상기 첨가제는, 산화방지제, UV 흡수제 및 이들의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 소재
|
| 13 |
13
제1항의 폴리실라잔계 수지 조성물 및 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물을 준비하는 단계(S1); 상기 폴리실라잔계 수지 조성물에 유기계 실록산 화합물을 첨가하여 혼합하여 코팅 소재를 제조함으로써 상기 코팅 소재로 제조될 박막의 헤이즈를 조절하는 단계(S2);상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 기재에 도포하는 단계(S3); 및상기 기재에 도포된 폴리실라잔계 코팅 소재를 경화하여 코팅층을 형성하는 단계(S4);를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 필름의 제조방법
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 하기 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조 방법:[화학식 3]상기 화학식 3에서,n5는 1 내지 50의 정수이고,R6 및 R7은 각각 독립적으로 (CH2)xCH3(x는 0 내지 20의 정수)이다
|
| 15 |
15
제13항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 하기 화학식 3-1으로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조 방법:[화학식 3-1]상기 화학식 3-1에서,n6은 1 내지 50의 정수이다
|
| 16 |
16
제13항에 있어서,상기 헤이즈 조절용 유기계 실록산 화합물은, 상기 폴리실라잔계 수지 조성물 100중량부 당 10 PHR(parts per hundred resin) 내지 50 PHR로 첨가되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조 방법
|
| 17 |
17
제13항에 있어서,상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 기재에 도포하는 단계는, 담지법, 함침법, 및 스피닝, 슬롯다이, 마이크로 그라비아, 그라비아 및 스프레이를 이용한 분사법으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나를 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 18 |
18
제13항에 있어서,상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 기재에 도포하는 단계는 상기 기재를 500rpm 내지 4,000rpm으로 회전하며 상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 1초 내지 20분 동안 분사하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 19 |
19
제13항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 펄스 UV 조사, 암모니아수 노출, 과산화수소수 노출 또는 열처리에 의해 상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 경화하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 20 |
20
제13항에 있어서,상기 코팅층을 경화하는 단계는 화학적 분위기하의 스팀법 또는 함침법에 의한 가열에 의해 상기 폴리실라잔계 코팅 소재를 경화하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 21 |
21
제19항에 있어서, 상기 펄스 UV 조사는 1,000 V 내지 4,000 V, 5 Hz 내지 50 Hz 및 150 nm 내지 450 nm 파장에서 0
|
| 22 |
22
제19항에 있어서,상기 암모니아수 노출은 15 ℃ 내지 35 ℃에서 5중량% 내지 35중량%의 암모니아수를 이용하여 12시간 내지 120시간 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 23 |
23
제19항에 있어서, 상기 과산화수소수 노출은 15 ℃ 내지 100 ℃에서 5중량% 내지 50중량%의 과산화수소수를 이용하여 12시간 내지 120시간 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 24 |
24
제16항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계 다음에 상기 코팅 필름을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 25 |
25
제24항에 있어서,상기 열처리단계는 70 ℃ 내지 120 ℃의 온도조건하에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름의 제조방법
|
| 26 |
26
제13항에 따라 제조된 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 코팅 필름
|
