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연통되게 제1 개방부와 제2 개방부가 형성된 반응관;상기 제1 개방부를 덮으며, 가스를 주입하는 주입축이 상기 제1 개방부 외측으로 돌출되게 형성되어 있고, 회전 시 상기 주입축이 회전축으로 사용되는 제1 덮개; 및상기 제2 개방부를 덮으며, 모터의 구동축에 연결되는 연결축이 상기 제2 개방부의 외측으로 돌출되게 형성되어 있고, 상기 연결축이 상기 주입축에 대해서 틀어져 있는 제2 덮개;를 포함하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서,상기 주입축 및 상기 연결축은 각각 수평축으로, 서로 평행하게 상기 제1 및 제2 덮개의 중심에 형성된 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제2항에 있어서,상기 반응관은 일정 각도로 경사지게 상기 제1 및 제2 덮개 사이에 개재되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제2항에 있어서,상기 반응관은 수평하게 상기 제1 및 제2 덮개 사이에 개재되고, 상기 주입축은 반응관의 중심축에 대해서 편심되게 상기 제1 덮개에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서,상기 주입축은 모터의 구동축과 동일 축 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제5항에 있어서,상기 주입축과 동일 축 상에 위치하는 상기 모터의 구동축과 상기 연결축을 연결하는 링크축;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서,상기 제1 개방부와 상기 제1 덮개 사이에 개재되는 제1 필터; 및상기 제2 개방부와 상기 제2 덮개 사이에 개재되는 제2 필터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파워더 ALD 장치용 반응기
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8
열을 공급하는 열원;상기 열원 내부에 회전 가능하게 설치되며, 상기 열원으로부터 열을 공급받아 내부에 제공된 파우더의 표면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD)을 수행하는 반응기; 및상기 반응기에 구동축을 매개로 연결되어 상기 반응기를 회전시키는 모터;를 포함하고,상기 반응기는,연통되게 제1 개방부와 제2 개방부가 형성된 반응관;상기 제1 개방부를 덮으며, 가스를 주입하는 주입축이 상기 제1 개방부 외측으로 돌출되게 형성되어 있고, 회전 시 상기 주입축이 회전축으로 사용되는 제1 덮개; 및상기 제2 개방부를 덮으며, 상기 모터의 구동축에 연결되는 연결축이 상기 제2 개방부의 외측으로 돌출되게 형성되어 있고, 상기 연결축이 상기 주입축에 대해서 틀어져 있는 제2 덮개;를 포함하는 파우더 ALD 장치
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제8항에 있어서, 상기 반응기는,상기 주입축 및 상기 연결축이 각각 수평축으로, 서로 평행하게 상기 제1 및 제2 덮개의 중심에 형성된 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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제9항에 있어서,상기 반응관은 일정 각도로 경사지게 상기 제1 및 제2 덮개 사이에 개재되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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제9항에 있어서,상기 반응관은 수평하게 상기 제1 및 제2 덮개 사이에 개재되고, 상기 주입축은 반응관의 중심축에 대해서 편심되게 상기 제1 덮개에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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제9항에 있어서,상기 주입축은 상기 모터의 구동축과 동일 축 상에 위치하고,상기 주입축과 동일 축 상에 위치하는 상기 모터의 구동축과 상기 연결축을 연결하는 링크축;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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