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화학 공정용 펌프

  • 기술번호 : KST2022008475
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상대적으로 펌프의 크기를 덜 증가시키면서도 펌프의 성능을 향상시킬 수 있는 화학 공정용 펌프에 관한 것으로, 회전하여 일측으로 유입되는 유체를 타측으로 배출하는 임펠러, 상기 임펠러에 결합되는 샤프트, 상기 샤프트와 결합되어 회전하는 로터, 상기 샤프트가 연장된 방향을 기준으로 상기 로터의 일측에 배치되어, 상기 로터를 회전시키며, 상기 샤프트와 평행한 가상의 축을 기준으로 권선되는 코일을 포함하는 제1스테이터 및 상기 제1스테이터를 상기 임펠러, 상기 샤프트 및 상기 로터와 분리하여 유체가 상기 제1스테이터측으로 누출되는 것을 방지하는 하우징을 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL F04D 29/22 (2006.01.01) F04D 29/043 (2006.01.01) F04D 13/06 (2006.01.01) F04D 29/42 (2006.01.01) H02K 9/06 (2014.01.01) H02K 7/00 (2014.01.01) H02K 5/10 (2014.01.01) H02K 1/27 (2022.01.01)
CPC F04D 29/22(2013.01) F04D 29/043(2013.01) F04D 13/06(2013.01) F04D 29/426(2013.01) H02K 7/14(2013.01) H02K 9/06(2013.01) H02K 7/003(2013.01) H02K 5/10(2013.01) H02K 1/27(2013.01) F05D 2260/31(2013.01) H02K 2213/03(2013.01)
출원번호/일자 1020200173723 (2020.12.11)
출원인 한국전자기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0083457 (2022.06.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.11)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤명환 서울특별시 구
2 이정종 인천광역시 부평구
3 유세현 경기도 부천시
4 이기덕 서울특별시 영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2020-1349626-18
2 보정요구서
Request for Amendment
2020.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0193591-08
3 [출원서 등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2021.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2020-1384455-62
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.03.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0025564-25
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0230617-32
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2022-0382087-62
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.04.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0382076-60
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
회전하여 일측으로 유입되는 유체를 타측으로 배출하는 임펠러;상기 임펠러에 결합되는 샤프트;상기 샤프트와 결합되어 회전하는 로터;상기 샤프트가 연장된 방향을 기준으로 상기 로터의 일측에 배치되어, 상기 로터를 회전시키며, 상기 샤프트와 평행한 가상의 축을 기준으로 권선되는 코일을 포함하는 제1스테이터; 및상기 제1스테이터를 상기 임펠러, 상기 샤프트 및 상기 로터와 분리하여 유체가 상기 제1스테이터측으로 누출되는 것을 방지하는 하우징;을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
2 2
제1항에 있어서,상기 로터와 상기 제1스테이터의 폭은, 상기 임펠러의 직경 이상인 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
3 3
제1항에 있어서,상기 로터의 일면과 상기 하우징의 내면은 일정 간격 이격되고,상기 로터의 일면에 상기 샤프트와 동축으로 형성되어, 일단이 상기 하우징의 내면과 맞닿는 보조 샤프트;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
4 4
제3항에 있어서,상기 하우징은, 상기 보조 샤프트와 맞닿은 내면이 일정 정도 함몰 형성되되, 외곽이 경사지게 형성되는 경사 보조부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
5 5
제1항에 있어서,상기 제1스테이터는 상기 하우징의 외면에 밀착되는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
6 6
제5항에 있어서,상기 하우징은, 외주면에서 상기 샤프트에서 수직한 방향으로 연장 형성되는 제1결합 보조부;를 포함하고,상기 제1스테이터는, 상기 제1결합 보조부에 대응되는 위치에 형성되는 제2결합 보조부;를 포함하며,상기 제1결합 보조부와 상기 제2결합 보조부는 볼팅되어 상기 하우징과 상기 제1스테이터는 서로 결합되는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
7 7
제1항에 있어서,상기 로터는, 외주면에 위치하는 영구자석을 포함하고,상기 하우징의 외주면에 상기 영구자석에 인접하여 배치되는 제2스테이터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
8 8
제1항에 있어서,상기 로터는, 일면에 돌출되어 위치하는 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
9 9
제1항에 있어서,상기 로터는 유도기 로터로, 내부에 위치하는 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 공정용 펌프
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 (주)플로닉스 에너지수요관리핵심기술개발사업 (R)화학공정용 효율 60%이상의 테프론 라인드 고효율 마그네틱 드라이브 원심 펌프 개발