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무전해도금 장치 및 이를 이용한 다차원 탄소나노구조체 제조방법

  • 기술번호 : KST2022008603
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 무전해도금 장치 및 이를 이용한 다차원 탄소나노구조체 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 다차원 탄소나노구조체 제조방법은 탄소지지체의 표면을 민감화 처리하는 민감화 처리단계; 상기 탄소지지체의 표면을 활성화 처리하는 활성화 처리단계; 무전해도금 용액이 채워진 챔버에 상기 탄소지지체를 넣고 초음파 균질기로 상기 무전해도금 용액을 초음파 진동시키면서 상기 탄소지지체의 표면에 금속촉매를 담지하는 금속촉매 담지단계; 및 상기 탄소지지체 상에 탄소나노튜브를 성장시키는 탄소나노튜브 성장단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 탄소지지체 표면에서 탄소나노튜브가 균질하게 성장된 다차원 탄소나노구조체를 제조하는 것이 가능하다.
Int. CL C23C 18/16 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020210052059 (2021.04.22)
출원인 한국전자기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0085691 (2022.06.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020200174377   |   2020.12.14
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.04.22)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이철승 경기도 성남시 분당구
2 박지선 경기도 성남시 분당구
3 전영무 경기도 용인시 기흥구
4 한송이 경기도 성남시 중원구
5 박민욱 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2021-0468747-47
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번호 청구항
1 1
무전해도금 용액이 채워지는 챔버; 및상기 챔버 내 무전해도금 용액을 초음파 진동시키는 초음파 균질기;를 포함하는 무전해도금 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 초음파 균질기는 상기 챔버 내로 연장되며 진동하는 진동 팁을 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해도금 장치
3 3
제2항에 잇어서,상기 진동 팁은 Ti 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 무전해도금 장치
4 4
제2항에 있어서,상기 초음파 균질기에서 상기 진동 팁은 다수 개가 구비되는 것을 특징으로 하는 무전해도금 장치
5 5
제2항에 있어서,상기 진동 팁은 상기 챔버 내에서 이동 가능하게 형성되는 것을 특징으로 하는 무전해도금 장치
6 6
제1항에 있어서,상기 챔버 내에 열을 공급하는 히터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금 장치
7 7
탄소지지체의 표면을 민감화 처리하는 민감화 처리단계;상기 탄소지지체의 표면을 활성화 처리하는 활성화 처리단계;무전해도금 용액이 채워진 챔버에 상기 탄소지지체를 넣고 초음파 균질기로 상기 무전해도금 용액을 초음파 진동시키면서 상기 탄소지지체의 표면에 금속촉매를 담지하는 금속촉매 담지단계; 및상기 탄소지지체 상에 탄소나노튜브를 성장시키는 탄소나노튜브 성장단계;를 포함하는 다차원 탄소나노구조체 제조방법
8 8
제7항에 있어서,상기 금속촉매 담지단계에서는 상기 무전해도금 용액을 60 ~ 90℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 다차원 탄소나노구조체 제조방법
9 9
제7항에 있어서,상기 민감화 처리단계에서는 Sn염을 포함하는 민감화 용액에 상기 탄소지지체를 혼합하여 상기 탄소지지체의 표면을 민감화 처리하는 것을 특징으로 하는 다차원 탄소나노구조체 제조방법
10 10
제9항에 있어서,상기 활성화 처리단계에서는 Pd염을 포함하는 활성화 용액에 상기 탄소지지체를 혼합하여 상기 탄소지지체의 표면을 활성화 처리하는 것을 특징으로 하는 다차원 탄소나노구조체 제조방법
11 11
제7항에 있어서,상기 금속촉매 담지단계에서 상기 무전해도금 용액은 Fe염, Co염 및 환원제를 포함하는 것을 특징으로 하는 다차원 탄소나노구조체 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국생산기술연구원 원천기술개발사업 (C) 고종횡비 TSV 단위 공정 안정화 및 신뢰성 향상 기술 개발
2 산업통상자원부 성원포밍 산업집적지경쟁력강화사업 하이브리드 그래핀 소재 대량제조 공정 장비개발