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입자상의 금속산화물;상기 금속산화물에 포함되는 금속과 배위결합 또는 공유결합하여 위치하는 표면안정자(surface stabilizer); 및상기 금속산화물에 결합된 네트워크 형성자;를 포함하는 유무기 하이브리드 나노입자
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제 1항에 있어서,상기 표면안정자는 카보닐기 또는 아마이드 결합 또는 비공유전자쌍을 가지는 질소를 포함한 탄소 원자 1 내지 20개를 가지는 화합물을 포함하는 유기리간드인 유무기 하이브리드 나노입자
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제 2항에 있어서,상기 유리리간드는 피리딘(pyridine), 2-아미노피리딘(2-aminopyridine), 피라졸(pyrazole), 포믹산(formic acid), 아세트산(acetic acid), 벤조산(benzoic acid), 아미노벤조산(aminobenzoic acid), 우레아(urea), 포름아미드(formamide), 디메틸포름아미드(dimethylformamide) 및 디에틸포름아미드(diethylformamide) 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 유무기 하이브리드 나노입자
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제 1항에 있어서,상기 네트워크 형성자는 하이드록시기 및 나이트레이트 이온 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 유무기 하이브리드 나노입자
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제 4항에 있어서,상기 유무기 하이브리드 나노입자는 상기 나이트레이트 이온으로부터 기인한 산소 연결기(-O-)를 통해 금속산화물에 포함되는 금속(M) 간 결합된 M-O-M 결합(oxo-cross linking)을 포함하는 유무기 하이브리드 나노입자
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제 1항에 있어서,상기 금속은 주석(Sn)인 유무기 하이브리드 나노입자
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제 1항에 있어서,상기 유무기 하이브리드 나노입자의 크기는 10 nm 이하인 유무기 하이브리드 나노입자
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제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 유무기 하이브리드 나노입자를 포함하는 필름
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a) 제 8항의 필름을 기판 상에 형성하는 단계; 및b) 상기 필름을 노광한 후 현상하여 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 포토레지스트 패턴의 형성방법
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제 9항에 있어서,상기 노광은 전자빔(E-beam) 또는 극자외선(EUV)를 이용하여 수행되는 것인 포토레지스트 패턴의 형성방법
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제 9항에 있어서,상기 패턴은 네거티브형 패턴인 포토레지스트 패턴의 형성방법
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a) 금속 전구체, 유기리간드 화합물, 질산염 화합물 및 유기용매를 포함하는 혼합액으로부터 유기금속화합물 전구체 용액을 합성 하는 단계; 및b) 상기 유기금속화합물 전구체 용액을 열처리하여 금속산화물 표면에 상기 유기리간드 및 질산염 이온이 결합된 입자를 성장 시키는 단계;를 포함하는 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 a) 단계에서 합성되는 유기금속화합물은 금속화합물에 유기리간드가 배위결합된 가용성 유기금속화합물인 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 금속 전구체는 주석(Sn) 할라이드인 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 a) 단계에서 혼합되는 금속 전구체 : 유기리간드 화합물의 몰비는 1 : 0
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제 12항에 있어서,상기 금속산화물은 상기 열처리를 통해 열분해된 질산염으로부터 기인하여 형성되는 것인 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 열처리는 80 내지 150 ℃의 온도에서 1 내지 10시간 동안 수행되는 것인 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 a) 단계 및 b) 단계는 단일 반응기(one-pot)에서 연속적으로 수행되는 것인 유무기 하이브리드 나노입자의 제조방법
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