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연속상의 매트릭스를 이루는 전기변색물질막; 및상기 전기변색물질막 내에 분산된 복수의 금속 나노 입자;를 포함하는 전기변색 복합 구조체
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청구항 1에 있어서,상기 전기변색물질막은 상기 복수의 금속 나노 입자를 이루는 금속과는 상이한 금속의 금속 산화물을 포함하는 전기변색 복합 구조체
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청구항 2에 있어서,상기 복수의 금속 나노 입자의 전체 질량은 상기 금속 산화물의 전체 질량의 0
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청구항 1에 있어서,상기 복수의 금속 나노 입자의 평균 입경은 10 내지 200 ㎚인 전기변색 복합 구조체
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청구항 4에 있어서,상기 복수의 금속 나노 입자의 입경 편차는 상기 평균 입경을 중심으로 ± 10 %인 전기변색 복합 구조체
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청구항 1에 있어서,상기 복수의 금속 나노 입자는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 오스뮴(Os) 중 어느 하나의 금속 또는 둘 이상의 합금으로 이루어진 전기변색 복합 구조체
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7
청구항 1에 있어서,상기 복수의 금속 나노 입자는,제1의 평균 입경을 갖는 복수의 제1 나노입자; 및상기 제1의 평균 입경과 상이한 제2의 평균 입경을 갖는 복수의 제2 나노입자를 포함하는 전기변색 복합 구조체
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8
청구항 7에 있어서,상기 복수의 제2 나노입자는 상기 복수의 제1 나노입자와 상이한 파장의 빛을 반사시키는 전기변색 복합 구조체
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9
서로 대응되어 제공되는 제1 및 제2 전극;상기 제1 전극 상에 형성되는 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항의 전기변색 복합 구조체;상기 전기변색 복합 구조체와 대응되어 상기 제2 전극 상에 형성되는 이온저장층; 및상기 전기변색 복합 구조체와 상기 이온저장층 사이에 제공되는 전해질층;을 포함하고,상기 전기변색 복합 구조체는 상기 제1 및 제2 전극에 인가되는 전압에 따라 반사율이 조절되는 전기변색소자
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10
청구항 9에 있어서,상기 전기변색 복합 구조체의 변색상태 반사율은 40 내지 90 %인 전기변색소자
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11
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항의 전기변색 복합 구조체를 산화분위기에서 스퍼터링으로 제조하는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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12
청구항 11에 있어서,상기 전기변색물질막에 포함되는 금속 또는 금속 산화물로 이루어진 타겟 영역과 상기 금속 나노 입자의 금속으로 이루어진 타겟 영역을 코스퍼터링(co-sputtering)하는 과정;을 포함하는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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13
청구항 12에 있어서,상기 코스퍼터링하는 과정은 상기 금속 또는 금속 산화물 타겟에 상기 금속 나노 입자의 금속 타겟보다 2배 이상 높은 전원을 인가하여 수행되는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 전기변색물질막에 포함되는 금속과 상기 금속 나노 입자의 금속의 합금 타겟을 스퍼터링하는 과정;을 포함하는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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15
청구항 14에 있어서,상기 합금 타겟을 스퍼터링하는 과정은 상기 금속 나노 입자의 금속의 2배 이상의 중량비로 상기 전기변색물질막에 포함되는 금속이 함유된 합금 타겟을 스퍼터링하여 수행되는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 스퍼터링으로 증착된 전기변색 복합 구조체를 열처리하는 과정;을 포함하는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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청구항 16에 있어서,상기 전기변색 복합 구조체를 열처리하는 과정은 150 내지 500 ℃의 온도에서 수행되는 전기변색 복합 구조체 제조방법
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