| 1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 과불소폴리에테르-벤조페논 화합물
|
| 2 |
2
하기 화학식 2의 과불소폴리에테르(PFPE), 하기 화학식 3의 HDI, 및 하기 화학식 4의 벤조페논(BP) 화합물을 반응시켜 제1항의 과불소폴리에테르-벤조페논 화합물을 얻는 단계를 포함하는 제1항의 과불소폴리에테르-벤조페논 화합물의 제조방법:003c#화학식 2003e#003c#화학식 3003e#003c#화학식 4003e#
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 반응이 수소염화불화탄소(hydrochlorofluorocarbon, HCFC) 용매 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
|
| 4 |
4
제1항의 과불소폴리에테르-벤조페논 화합물을 포함하는 코팅 첨가제
|
| 5 |
5
제1항의 과불소폴리에테르-벤조페논 화합물을 포함하는 코팅용 조성물
|
| 6 |
6
제5항에 있어서, 과불소 헵탄, 과불소 헥산, m-키시렌헥사 플로오라이드, 벤조트리플루오라이드, 메틸 과불소 부틸에테르, 에틸 과불소 부틸에테르, 과불소(2－부틸 테트라 하이드로퓨란), 석유 벤젠, 미네랄 스피리츠, 이소파라핀, 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소 부틸 케톤, 시클로헥사논, 우레탄 아크릴레이트, 하이드록시 사이클로헥실 페닐 케톤, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 메탄올, 및 수소염화불화탄소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용제를 포함하는 코팅용 조성물
|
| 7 |
7
제5항에 있어서, 상기 코팅용 조성물이 광경화 가능한 것을 특징으로 하는 코팅용 조성물
|
| 8 |
8
제5항 내지 제7항의 코팅용 조성물이 경화되어 형성되는 박막
|
| 9 |
9
제8항에 있어서, 상기 박막이 두께가 0
|
| 10 |
10
제8항의 박막으로 코팅되어 있는 필름
|
| 11 |
11
제8항의 박막이 피복되어 있는 방오성 기재
|
