맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템

  • 기술번호 : KST2022009356
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템에 관한 것으로써, 액정의 유전율 이방성 특징을 활용한 주파수 가변용 패치 안테나의 설계를 위한 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템에 의하면, 액정의 유전율 이방성 특징을 활용한 주파수 가변용 패치 안테나를 설계하여 고가의 액정을 최소량으로 사용하면서도 안테나의 주파수 변화율을 극대화시키는 효과가 있다. 또한, 동시에 액정의 배향력을 고려하여 패치 안테나의 방사특성을 추가적으로 향상시킬 수 있다. 응용분야에 따라 최적의 주파수 변화율과 안테나의 방사특성을 선택할 수 있도록 하는 효과가 있다.
Int. CL H01Q 9/04 (2018.01.01) H01Q 1/24 (2006.01.01)
CPC H01Q 9/0407(2013.01) H01Q 1/243(2013.01)
출원번호/일자 1020200189168 (2020.12.31)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0096588 (2022.07.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 5

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 나준희 세종특별자치시
2 김도원 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호(문정동, 에이치비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)
2 김재문 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, 에이치비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2020.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2020-1439823-39
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
 2021.10.05 수리 (Accepted) 4-1-2021-5261638-12
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
패치 안테나 표면의 electric-field 분포를 고려하여, 주파수 변화량에 영향을 많이 미치는 액정의 위치 및 면적을 결정하는 액정소재 결정부; 기판 두께 측면에서도 액정 층의 두께가 주파수 변화율에 미치는 영향을 분석하는 분석부; 및 주파수 변화율을 극대화시킴과 동시에 안테나의 방사특성을 확보하기 위해 액정형 패치 안테나 설계 시 원하는 대역폭 및 주파수 변화율을 고려하여 배향막의 개수를 조절하여 설계하는 조절부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템
2 2
제1항에 있어서,상기 액정소재 결정부는 패치 안테나 표면의 electric-field 분포를 고려하여 액정소재를 안테나의 일부에만 적용하는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템
3 3
제1항에 있어서,상기 액정소재 결정부는 한층 이상의 액정층을 갖는 안테나 구조인 것을 특징으로 하는 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템
4 4
제1항에 있어서,상기 액정소재 결정부는 한층 이상의 전극층을 활용한 안테나 구조인 것을 특징으로 하는 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템
5 5
제4항에 있어서,상기 안테나 구조는 전극층의 모양이 수직, 수평, 매쉬 구조 형태를 갖는 안테나 구조인 것을 특징으로 하는 주파수 가변 액정형 평면 안테나 설계 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.