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진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 제1 입력광을 생성하는 제1 압축 연산;진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 제2 입력광을 생성하는 제2 압축 연산; 및상기 제1 입력광과 상기 제2 입력광의 양자 상태가 간섭되고, 상기 제1 입력광의 진행 방향으로 시그널을 출력하고 상기 제2 입력광의 진행 방향으로 아이들러를 출력하는 빔가르개를 포함하고,상기 제1 압축 연산의 압축 정도와 상기 제2 압축 연산의 압축 정도가 서로 다른 비대칭 이중 모드 압축 광 생성 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 입력광의 위상과 상기 제2 입력광의 위상은 서로 동일한 비대칭 이중 모드 압축 광 생성 장치
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제1 항에 있어서,상기 빔가르개는 반사:투과가 50:50인 비편광형 광분리기인 비대칭 이중 모드 압축 광 생성 장치
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압축 정도가 서로 다른 진공 압축 상태의 제1 입력광과 제2 입력광을 입사받아 상기 제1 입력광의 진행 방향으로 시그널을 출력하고 상기 제2 입력광의 진행 방향으로 아이들러를 출력하는 빔가르개;복수의 픽셀에 대한 위치를 특정하여 상기 아이들러를 수신하는 위치 가변 광량 검출기;피사체에 반사된 후 입사되는 상기 시그널을 수신하는 위치 고정 광량 검출기; 및상기 위치 고정 광량 검출기에서 측정된 측정값 및 상기 위치 가변 광량 검출기에서 측정된 측정값과 위치를 이미지 생성 장치에 전달하는 인터페이스를 포함하는 양자 고스트 이미징 장치
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제4 항에 있어서,진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 상기 제1 입력광을 생성하는 제1 압축 연산; 및진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 상기 제2 입력광을 생성하는 제2 압축 연산을 더 포함하는 양자 고스트 이미징 장치
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제4 항에 있어서,상기 빔가르개에서 상기 제1 입력광과 상기 제2 입력광의 양자 상태가 간섭되는 양자 고스트 이미징 장치
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제4 항에 있어서,상기 제1 입력광의 위상과 상기 제2 입력광의 위상은 서로 동일한 양자 고스트 이미징 장치
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제4 항에 있어서,상기 빔가르개는 반사:투과가 50:50인 비편광형 광분리기인 양자 고스트 이미징 장치
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제4 항에 있어서,상기 위치 가변 광량 검출기는 상기 아이들러를 하나의 픽셀에 투과시키는 핀홀을 픽셀 단위로 이동시키면서 상기 복수의 픽셀 각각에 대한 아이들러의 광량을 검출하는 양자 고스트 이미징 장치
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압축 정도가 서로 다른 진공 압축 상태의 제1 입력광과 제2 입력광을 입사받아 상기 제1 입력광의 진행 방향으로 시그널을 출력하고 상기 제2 입력광의 진행 방향으로 아이들러를 출력하는 단계;빔가르개에서 상기 제1 입력광과 상기 제2 입력광의 양자 상태가 간섭되고, 상기 제1 입력광의 진행 방향으로 시그널을 출력하고 상기 제2 입력광의 진행 방향으로 아이들러를 출력하는 단계;복수의 픽셀에 대한 위치를 특정하여 상기 아이들러를 수신하는 단계;피사체에 반사된 후 입사되는 상기 시그널을 수신하는 단계; 및상기 시그널의 측정값 및 상기 아이들러의 측정값과 위치를 기반으로 이미지를 생성하는 단계를 포함하는 양자 고스트 이미징 방법
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제10 항에 있어서,진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 상기 제1 입력광을 생성하는 단계; 및진공 상태에 압축 연산을 가하여 단일 모드 진공 압축 상태의 상기 제2 입력광을 생성하는 단계를 더 포함하는 양자 고스트 이미징 방법
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제10 항에 있어서,상기 제1 입력광의 위상과 상기 제2 입력광의 위상은 서로 동일한 양자 고스트 이미징 방법
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