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하기 반응식 1에 의해 제어되는,금속 산화물:[반응식 1] (상기 반응식 1에서 Me는 Ni, Cr, Bi, Cu, V, Al, Zn, Zr, Ti, 및 Fe 중에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상의 금속, Ch는 킬레이트제로서 전자공여체 원소는 질소(N), 인(P), 황 (S), O(산소) 및 할로겐 음이온 중에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상이고, x는 금속 대비 포함되는 킬레이트제의 몰비(molar ratio)로서 0 003c# x 003c# 3 (x는 정수가 아닌 실수) 및 y는 0 003c# y ≤ 2)
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제 1 항에 있어서,상기 금속 Me는 Ni이고, 상기 금속산화물 MeOy는 NiO인, 금속 산화물
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제 1 항에 있어서, 상기 킬레이트제 Ch는 에틸렌 디아민(ethylene diamine)인, 금속 산화물
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 대비 포함되는 킬레이트제의 몰비(molar ratio) x는 0
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 산화물 MeOy 의 일함수는 5
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제 1 항에 있어서, 상기 금속산화물 MeOy 의 이온화전위값은 5
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제 1 항에 있어서, XPS 분석시 854
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 산화물은 나노입자인, 금속 산화물
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졸겔법을 이용하여 금속 산화물을 제조하는 방법에 있어서,금속 전구체를 용매에 혼합하는 단계;킬레이트제를 상기 혼합된 용액에 투입하여 50 내지 100℃에서 교반하는 단계; 및20내지 30℃에서 냉각시키는 단계를 포함하고,상기 킬레이트제는 하기 반응식 2에 의해 제어되는 몰비로 투입하는,금속 산화물 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매는 알코올계 용매인,금속 산화물 제조방법
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제 1 전극;제 2 전극; 및상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 위치하고, 하기 반응식 3에 의해 제어되는 금속 산화물 전도성 박막을 포함하는,광전자소자
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