1 |
1
은나노와이어; 및PVA??sbQ(Polyvinyl alcohol with styrylpyridinium pendent groups)의 완충제;를 포함하는 3차원 구조의 투명전극 제조용 은나노와이어 코팅액
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 은나노와이어 코팅액은 상기 완충제 0
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 완충제는 PVA(Polyvinyl alcohol)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조의 투명전극 제조용 은나노와이어 코팅액
|
4 |
4
제3항에 있어서,하이드록시 프로필 메틸 셀룰로오스(hydroxy propyl methyl cellulose), 2-하이드록시 에틸 셀룰로오스(2-hydroxy ethyl cellulose), 카르복시 메틸 셀룰로오스(carboxy methyl cellulose), 폴리비닐 알콜(Polyvinyl alcohol; PVA) 및 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone; PVP) 중 적어도 하나를 포함하는 점도조절제;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조의 투명전극 제조용 은나노와이어 코팅액
|
5 |
5
은나노와이어와 PVA??sbQ(Polyvinyl alcohol with styrylpyridinium pendent groups)의 완충제를 함유하는 은나노와이어 코팅액을 베이스 기판 위에 코팅하여 2차원 구조의 투명전극이 형성된 코팅 기판을 제조하는 코팅 단계;상기 코팅 기판을 3차원 열성형하여 상기 2차원 구조의 투명전극을 3차원 구조의 투명전극으로 형성하는 3차원 열성형 단계; 및열성형된 3차원 구조의 투명전극을 물로 세척하여 전도성을 개선한 3차원 구조의 투명전극을 형성하는 세척 단계;를 포함하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
6 |
6
제5항에 있어서,상기 베이스 기판은 폴리카보네이트, 폴리메틸메사클리레이트, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
7 |
7
제5항에 있어서,상기 은나노와이어 코팅액은 상기 완충제 0
|
8 |
8
제5항에 있어서, 상기 코팅 단계에서,상기 베이스 기판 위에 상기 은나노와이어 코팅액을 분사 코팅(spray coating), 그라비아 코팅(gravure coating), 마이크로그라비아 코팅(micro-gravure coating), 바코팅(bar-coating), 나이프 코팅(knife coating), 리버스 롤 코팅(reverse roll coating), 롤 코팅(roll coating), 캘린더 코팅(calender coating), 커튼 코팅(curtain coating), 압출 코팅(extrustion coating), 캐스트 코팅(cast coating), 침지 코팅(dip coating), 에어-나이프 코팅(air-knife coating), 거품 코팅(foam coating) 및 슬릿 코팅(slit coating) 중 적어도 하나의 방법으로 코팅하여 상기 2차원 구조의 투명전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
9 |
9
제5항에 있어서, 상기 3차원 열성형 단계에서,상기 3차원 열성형은 80 내지 200℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
10 |
10
제9항에 있어서, 상기 3차원 열성형 단계에서,상기 3차원 열성형은 압축 성형, 인서트 성형 또는 블로우 성형을 이용하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
11 |
11
제5항에 있어서, 상기 세척 단계에서,상기 열성형된 3차원 구조의 투명전극을 물로 세척하는 과정에서 상기 열성형된 3차원 구조의 투명전극에 포함된 완충제가 제거되면서 3차원 구조의 투명전극에 포함된 은나노와이어가 접촉되어 전도성 네트워크를 형성하여 전기전도성을 개선하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|
12 |
12
제11항에 있어서,상기 코팅 단계에서의 2차원 구조의 투명전극의 면저항은 10 ㏀/sq 이상 이고,상기 세척 단계를 수행하여 제조된 3차원 구조의 투명전극의 면저항은 10 내지 300 Ω/sq 인 것을 특징으로 하는 은나노와이어 코팅액을 이용한 3차원 구조의 투명전극 제조 방법
|