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광을 제공하는 광원부;상기 광원으로부터 입력된 광을 타겟면에 출사하고, 타겟면으로부터 반사된 광을 수광하는 측정부;광의 방향을 전환하여 닫힌 경로를 형성하는 복수의 미러와, 상기 측정부를 통과한 광을 수직 편광된 제1빔 및 제2빔으로 분리하여 상기 닫힌 경로를 따라 반대 방향으로 이동시킨 후 합쳐서 출력하는 편광 빔 스플리터와, 상기 닫힌 경로상에 위치 조절 가능하게 배치되는 제1렌즈 및 제2렌즈를 포함하는 간섭부; 및상기 간섭부에서 출력된 광의 간섭무늬를 분석하여 타겟의 형상을 검출하는 검출부를 포함하는, 광학 검사 시스템
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제1항에 있어서,상기 복수의 미러는 상기 닫힌 경로를 사각 고리 형태로 형성하도록, 순차적으로 배치되는 제1미러, 제2미러 및 제3미러를 포함하고,상기 제1렌즈는 상기 제1미러 및 제2미러 사이에 배치되고,상기 제2렌즈는 상기 제3미러 및 편광 빔 스플리터 사이에 배치되는, 광학 검사 시스템
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제1항에 있어서,상기 간섭부에서 |f1-f2| ≤ 1mm 인, 광학 검사 시스템
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제1항에 있어서,상기 측정부는,평면 미러;상기 광원으로부터 입력된 광을 분할하여 상기 타겟을 향하는 제1경로 및 상기 평면 미러를 향하는 제2경로로 이동시키는 빔 스플리터;상기 제1경로상에 배치되고, 광을 선택적으로 차단하는 제1셔터; 및상기 제2경로상에 배치되고, 광을 선택적으로 차단하는 제2셔터를 포함하는, 광학 검사 시스템
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제1항에 있어서,상기 검출부는,상기 광의 간섭무늬의 분석을 설정된 알고리즘에 기초하여 수행하고,상기 설정된 알고리즘을 통해 상기 타겟의 형상에 따라 예측되는 간섭무늬를 획득하고, 획득한 간섭무늬가 검출된 간섭무늬와 일치하도록 상기 알고리즘의 최적화를 수행하는, 광학 검사 시스템
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