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구형 형태이고 비정질상으로 이루어진 실리콘옥시카바이드 분말이 탄화되고 상기 실리콘옥시카바이드의 주형물질인 실리카가 제거되어 형성된 다공성 탄소로 이루어지며, 상기 주형물질인 실리카가 차지하는 자리(site)에 기공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소
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제1항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 구형 형태이고 50∼300㎚의 평균 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소
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제1항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 마이크로 기공의 부피가 0
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제1항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 500∼3000m2/g의 BET 비표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소
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(a) Si를 포함하는 실리콘옥시카바이드 전구체를 용매에 분산 또는 용해시켜 전구체 용액을 형성하는 단계;(b) 상기 전구체 용액으로부터 액적을 발생시키는 단계; (c) 상기 액적을 미리 가열된 반응기 내에 분무시키는 단계; (d) 상기 반응기에서 상기 액적이 열분해되면서 반응되어 실리콘옥시카바이드가 생성되는 단계; (e) 상기 반응기를 통과한 실리콘옥시카바이드 분말을 포집기에서 포집하는 단계;(f) 포집된 실리콘옥시카바이드 분말을 열처리하여 탄화시키는 단계; 및(g) 탄화된 결과물에서 주형물질인 실리카를 제거하여 다공성 탄소를 수득하는 단계를 포함하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 실리콘옥시카바이드 전구체는 디페닐실란디올(dipheynlsilanediol), 트리페닐실란올(triphenylsilanol), 트리메톡시페닐실란(trimehtoxyphenylsilane), 페닐트리에톡시실란(phenyltriethoxysilane), 트리에톡시비닐실란(triethoxyvinylsilane) 및 디메틸비닐실란올(dimethylvinylsilanol)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 전구체 용액의 농도는 0
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제5항에 있어서, 상기 액적의 크기는 0
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제5항에 있어서, 가열된 반응기 내의 온도는 500∼1200 ℃인 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 (c) 단계는 운반가스를 공급하여 상기 액적이 상기 반응기 내로 분무되게 하고,상기 운반가스는 1∼10ℓ/min의 유량으로 공급하는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 (g) 단계는 불산(hydrofluoric acid), 불화암모늄(ammonium, fluoride), 무기산 혹은 유기산 화합물, 탈이온수 또는 이들의 혼합물을 포함하는 애칭액을 이용하여 상기 주형물질인 실리카를 제거하는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 탄화는 비활성 가스 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 탄화는 700∼1300 ℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 실리콘옥시카바이드 분말은 구형 형태이고 50∼300㎚의 평균 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 실리콘옥시카바이드 분말은 비정질상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 구형 형태이고 50∼300㎚의 평균 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 기 다공성 탄소는 마이크로 기공의 부피가 0
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제5항에 있어서, 상기 다공성 탄소는 500∼3000m2/g의 BET 비표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 다공성 탄소의 제조방법
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