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제 1 용매에 폴리스티렌-폴리이소프렌-폴리스티렌(Polystyrene-polyisoprene-polystyrene, SIS)을 용해하여 SIS 용액을 제조하는 단계;상기 SIS 용액에 무기고형물을 투입하고 분산시켜 제 1 슬러리를 제조하는 단계;상기 제 1 슬러리에서 상기 제 1 용매를 적어도 일부 휘발시켜 제거하여 제 2 슬러리를 제조하는 단계; 및상기 제 2 슬러리에 제 2 용매를 투입하고 혼합하여 최종 슬러리를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 용매의 상온증발속도는 1
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 슬러리 내에서 상기 제 1 용매의 함량은 부피를 기준으로 25 ~ 70 부피%인, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 슬러리에서 상기 제 1 용매의 함량은 부피를 기준으로 2~30 부피%인, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물 제조 방법
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혼합용매에 폴리스티렌-폴리이소프렌-폴리스티렌(Polystyrene-polyisoprene-polystyrene, SIS)을 용해하여 SIS 혼합용액을 제조하는 단계; 상기 SIS 혼합용액에 무기고형물을 투입하고 분산시켜 중간 슬러리를 제조하는 단계; 및상기 중간 슬러리에서 상기 혼합용매 중 적어도 일부를 휘발시켜 제거하여 최종 슬러리를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 혼합용매는 상온증발속도가 1
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제 1 용매에 폴리스티렌-폴리이소프렌-폴리스티렌(Polystyrene-polyisoprene-polystyrene, SIS)을 용해하여 SIS 용액을 제조하는 단계; 상기 SIS 용액에 제 2 용매를 투입하고 혼합하여 SIS 혼합용액을 제조하는 단계;상기 SIS 혼합용액에 무기고형물을 투입하고 분산시켜 중간 슬러리를 제조하는 단계; 및상기 중간 슬러리에서 적어도 일부를 휘발시켜 제거하여 최종 슬러리를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 용매는 상온증발속도가 1
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무기고형물 50~80 부피%, 폴리스티렌-폴리이소프렌-폴리스티렌(Polystyrene-polyisoprene-polystyrene, SIS) 5~30 부피%, 혼합용매 5~25 부피%를 포함하고, 상기 혼합용매는 상온증발속도가 1
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 용매는 상온에서 SIS 용해시간은 2시간 이하이고, 상기 SIS 용해시간은 SIS:용매의 부피 비율을 20:80으로 혼합하고 공명혼합기를 이용하여 혼합하였을 때 균질한 혼합물을 만들기 위해 필요한 시간을 의미하는, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 용매는 헥산(Hexane), 디에틸에테르(Diethyl ether), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran, THF) 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물
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제 6 항에 있어서,상기 제 2 용매는 NMP(N-Methyl-2-pyrrolidone)인, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물
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제 6 항에 있어서,상기 혼합용매에서 상기 제 2 용매의 비율은 부피를 기준으로 하여 30~95 부피%인, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물
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제 6 항에 있어서,상기 무기 고형물은 탄화텅스텐 분말을 포함하는, 습식 분말 성형을 위한 슬러리 조성물
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