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(a) 제 1 지그(10)를 챔버(110) 내부에 안착하는 단계; (b) 제 1 지그(10)를 이용하여 웨이퍼(180)의 하부면을 고정하는 단계; (c) 가스 제어부(140)가 확산 가스를 통해 상기 웨이퍼(180)의 상부 표면이 도핑되도록 상기 챔버(110)의 내부로 유입되는 상기 확산 가스의 양을 제어하는 단계;(d) 상기 제 1 지그(10)를 제거한 후, 제 2 지그(910)로 상기 상부 표면이 도핑된 상기 웨이퍼(180)의 상부면을 고정하는 단계; (e) 상기 제 2 지그(910)에 포토레지스트를 도포하고 노광을 수행하여 포토레지스트 패턴(920)을 형성하는 단계; 및(f) 상기 제 2 지그(910)를 제거하고, 상기 포토레지스트 패턴(920)에 대해 도금 코팅을 수행하여 제 2 도금층(1010)을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 웨이퍼(180)의 제 1 도금층(310)을 에칭하기 위해 상기 제 1 지그(10)의 표면에는 에칭액이 분출되기 위한 다수개의 제 1 관통홀(302)이 서로 일정 간격으로 형성되고,상기 에칭액을 유입시키기 위해 상기 제 1 지그(10)의 내부에는 하나의 중공(301)이 형성되고,상기 제 1 지그(10)는 내부에 하나의 상기 중공(301)이 형성되고 표면에 다수개의 상기 제 1 관통홀(302)이 형성되는 원통형상이고, 상기 제 1 지그(10)의 양단은 깔대기 형상인 것을 특징으로 하는 박막 태양 전지 제조 방법
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