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제1 기판 상에 제1 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점을 포함하는 양자점 박막을 형성하는 단계;상기 양자점 박막을 스탬프를 이용하여 픽업하는 단계; 및상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점 박막을 제2 기판에 전사하는 단계;를 포함하고,상기 스탬프는 제2 극성을 갖는 자가조립 단분자막으로 표면처리된 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제1항에 있어서, 상기 양자점 박막을 스탬프를 이용하여 픽업하는 단계는, 쿨롱 인력에 의해 상기 양자점 박막을 픽업하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 극성을 갖는 리간드는 무기 리간드 및 두 기능기 리간드 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제3항에 있어서, 상기 무기 리간드는 금속-칼코게나이드(metal-chalcogenide) 화합물, 금속-할라이드(metal-halide) 화합물, 금속-옥사이드(metal-oxide) 화합물, 칼코게나이드(chalcogenide), 할라이드(halide) 및 슈도할라이드(pseudohalide), 하이드록시 이온 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 다층 박막의 적층 전사 인쇄 방법
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제3항에 있어서, 상기 두 기능기 리간드는 카르복시기, 아인산기, 하이드록시기, 사이올기, 아민기, 포스핀기 및 산화포스핀기 중 적어도 둘 이상의 작용기가 C1-C24 탄화수소에 결합된 리간드를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 다층 박막의 적층 전사 인쇄 방법
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제1항에 있어서, 상기 자가조립 단분자막은 아민기(-NH3), 싸이올기(-SH), 테프론기(-CF3), 에폭시기, 선형 및 가지형 알킬기(-R) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 C2 내지 C18의 탄화수소의 백본(backbone)으로 이루어진 실란기를 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제1항에 있어서, 상기 스탬프는 양각 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제7항에 있어서, 상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점 박막을 상기 제2 기판에 전사하는 단계를 진행한 다음,상기 스탬프를 상기 제2 기판으로부터 분리하여 양자점 패턴을 픽업하는 단계; 및상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점 패턴을 제3 기판에 전사하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제7항에 있어서, 상기 양자점 박막은 양자점 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2 기판은 음각 트랜치를 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제10항에 있어서, 상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점 박막을 상기 제2 기판에 전사하는 단계를 진행한 다음,상기 스탬프를 상기 제2 기판으로부터 분리하여 양자점 패턴을 픽업하는 단계; 및상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점 패턴을 제3 기판에 전사하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제10항에 있어서, 상기 제2 기판은 표면에서 내부로 들어간 리세스 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제12항에 있어서, 상기 스탬프가 상기 제2 기판으로부터 분리될 때 상기 양자점 박막 중에서 상기 제2 기판과 접촉하는 부분은 상기 제2 기판에 남고, 상기 리세스 영역에 대응하는 부분은 상기 스탬프에 의해 픽업되는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제7항 또는 제10항에 있어서, 상기 양자점 패턴의 너비는 20nm 내지 100mm인 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법
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제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점의 전사 인쇄 방법으로 제조된 양자점 박막을 포함하고,상기 양자점 박막은 무기 리간드 및 두 기능기 리간드 중 적어도 어느 하나로 표면처리된 양자점을 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점을 포함하는 양자점 박막
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제15항에 있어서, 상기 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점을 포함하는 양자점 박막은 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점을 포함하는 양자점 박막
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제15항 또는 제16에 따른 극성을 갖는 리간드로 표면처리된 양자점을 포함하는 양자점 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 소자
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제17항에 있어서,상기 전자 소자는 발광소자, 포토디텍터, 트랜지스터, 태양전지 및 메모리소자 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자 소자
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