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양친성 가지형 공중합체를 포함하는 고분자막, 상기 고분자막을 포함하는 기체 분리막 및 상기 고분자막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2022011152
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 양친성 가지형 공중합체를 포함하는 고분자막, 상기 고분자막을 포함하는 기체 분리막 및 상기 고분자막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 소수성 고분자인 P(VDF-co-CTFE) 주쇄의 곁가지에 친수성 고분자인 비닐피리딘계 화합물 측쇄를 공중합하여 양친성 가교형 공중합체를 합성하고, 이를 고분자막에 적용함으로써 양친성 가교형 공중합체의 자기조립성에 의해 막의 구조 및 기공 형태를 제어할 수 있다. 또한 본 발명의 고분자막은 막의 열적, 화학적 안정성이 우수하고, 일정 간격으로 특정하게 정렬된 격자구조의 거대 기공을 형성하여 막의 친수성도 및 기체 투과도를 현저하게 향상시킬 수 있다.
Int. CL B01D 71/34 (2006.01.01) B01D 71/62 (2006.01.01) B01D 53/22 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) C08L 27/16 (2006.01.01) C08L 39/08 (2006.01.01) C08F 214/22 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) C08F 226/06 (2006.01.01)
CPC B01D 71/34(2013.01) B01D 71/62(2013.01) B01D 53/228(2013.01) C02F 1/44(2013.01) B01D 67/0013(2013.01) B01D 67/0093(2013.01) C08L 27/16(2013.01) C08L 39/08(2013.01) C08F 214/22(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08F 226/06(2013.01) B01D 2325/36(2013.01) B01D 2325/22(2013.01) B01D 2325/30(2013.01) B01D 2325/20(2013.01) B01D 2325/021(2013.01) B01D 2323/02(2013.01)
출원번호/일자 1020220059402 (2022.05.16)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0072809 (2022.06.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/분할
원출원번호/일자 10-2020-0084636 (2020.07.09)
관련 출원번호 1020200084636
심사청구여부/일자 Y (2022.05.16)
심사청구항수 27

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종학 서울특별시 양천구
2 박병주 경기도 고양시 일산서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2022.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2022-0513846-49
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번호 청구항
1 1
소수성 고분자 주쇄의 곁가지에 친수성 고분자 측쇄가 원자이동라디칼 중합에 의해 공중합된 양친성 가지형 공중합체를 포함하는 고분자막으로서,상기 고분자막은 XRD 분석 결과, 2θ가 ④ 26° 내지 27° 범위 및 ⑤ 38° 내지 39° 범위에서 각각 제4 유효 피크 및 제5 유효 피크를 보이는 것을 특징으로 하는 고분자막
2 2
제1항에 있어서,상기 소수성 고분자는 폴리비닐리덴플루오라이드-코-클로로트리플루오로에틸렌(Poly(vinylidenefluoride-co-chlorotrifluoroethylene), P(VDF-co-CTFE))인 것인 고분자막
3 3
제1항에 있어서,상기 친수성 고분자는 2-비닐피리딘(2-vinylpyridine), 4-비닐피리딘(4-vinylpyridine) 또는 이들의 혼합물인 것인 고분자막
4 4
제1항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체는 상기 소수성 고분자 주쇄 및 친수성 고분자 측쇄가 5:5 내지 7:3 중량비로 중합된 것인 고분자막
5 5
제1항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체는 수평균분자량(Mn)이 125,000 내지 200,000 g/mol이고, 분자량 분포도(PDI)가 1
6 6
제1항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것인 고분자막
7 7
제6항에 있어서,상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 서로 상이하며, 각각 독립적으로 H, Cl 및 중에서 선택되고,R3 및 R4는 서로 동일하고, 각각 독립적으로 H이고,x, y 및 z는 각 반복단위의 중합 몰비로서 100 : 12~14 : 26~60이고,y'는 0 내지 1의 정수인 것인 고분자막
8 8
제1항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체는 FT-IR 분석 결과 1185 내지 1205 cm-1 의 파장수 범위에서 C-F 결합에 해당하는 피크를 가지는 것인 고분자막
9 9
제1항에 있어서,상기 고분자막은 XRD 분석 결과, 2θ가 ① 17° 내지 18° 범위, ② 18
10 10
제9항에 있어서,상기 (제1 유효 피크)/(제2 유효 피크)의 세기(intensity) 비율은 0
11 11
제1항에 있어서,상기 고분자막은 두께가 30 내지 200 ㎛인 것인 고분자막
12 12
제1항에 있어서,상기 고분자막은 기체 분리막용, 수처리막용, 이온성 전해질막용 또는 이온교환막용인 것인 고분자막
13 13
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 고분자막을 포함하는 기체 분리막
14 14
제13항에 있어서,상기 기체 분리막은 이산화탄소, 질소 및 메탄 중에서 선택된 1종 이상의 기체를 분리하는 것인 기체 분리막
15 15
제13항에 있어서,상기 기체 분리막은 질소(N2) 투과도가 3 x 104 내지 8 x 104 GPU인 것인 기체 분리막
16 16
제13항의 기체 분리막을 포함하는 기체 분리 장치
17 17
제13항의 기체 분리막을 포함하는 기체 포집 장치
18 18
제1 유기용매에 소수성 고분자, 친수성 고분자, 촉매 및 중합개시제를 투입하여 원자이동라디칼 중합에 의해 공중합시켜 양친성 가지형 공중합체를 제조하는 단계;제2 유기용매에 불소계 고분자 및 상기 양친성 가지형 공중합체를 용해시켜 고분자 캐스팅 용액을 제조하는 단계; 및상기 고분자 캐스팅 용액을 기재에 도포한 후 비용매 유도 상분리 방법에 의해 고분자막을 제조하는 단계;를 포함하는 고분자막의 제조방법
19 19
제18항에 있어서,상기 제1 유기용매는 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP), 디메틸설폭사이드(DMSO), 디메틸아세트아마이드(DMAc), 디메틸포름아미드(DMF) 및 테트라하이드로퓨란(THF)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 고분자막의 제조방법
20 20
제18항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체를 제조하는 단계는 상기 소수성 고분자 및 친수성 고분자를 5:5 내지 7:3 중량비로 중합하는 것인 고분자막의 제조방법
21 21
제18항에 있어서,상기 촉매는 CuCl, CuCl2, CuBr 및 CuBr2로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 고분자막의 제조방법
22 22
제18항에 있어서,상기 중합개시제는 1,1,4,7,10,10-헥사메틸렌트리에틸렌테트라민(1,1,4,7,10,10-Hexamethyltriethylenetetramine, HMTETA), N,N,N',N', N''-펜타페틸 디에틸렌트리아민(N,N,N',N', N''-pentamethyl diethylenetriamine, PMDETA), 4,4'-디메틸-2,2'-디피리딜(4,4'-dimethyl-2,2'-dipyridyl, DMDP), 트리스(2-아미노에틸)아민(tris(2-aminoethyl)amine, TRE), 트리스(2-디메틸아미노에틸)아민(tris(2-dimethylaminoethyl)amine, Me6-TREN), 2,2'-바이피(바이피리딘)(2,2'-Bipy(Bipyridine), N,N,N',N-테트라메틸에틸렌디아민(N,N,N',N-Tetramethylethylenediamine, TMEDA) 및 1,4,8,11-테트라아자사이클로테트라데칸(1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane, Me4-Cyclam)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 고분자막의 제조방법
23 23
제18항에 있어서,상기 양친성 가지형 공중합체를 제조하는 단계는 70 내지 110 ℃에서 10 내지 30 시간 동안 원자이동라디칼 중합시키는 것인 고분자막의 제조방법
24 24
제18항에 있어서,상기 제2 유기용매는 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP)인 것인 고분자막의 제조방법
25 25
제18항에 있어서,상기 불소계 고분자는 폴리(비닐리덴 플루오라이드-코-클로로트리플루오로에틸렌)(poly(vinylidene fluoride-co-chlorotrifluoroethylene, P(VDF-co-CTFE))인 것인 고분자막의 제조방법
26 26
제18항에 있어서,상기 고분자 캐스팅 용액은 불소계 고분자 및 상기 양친성 가지형 공중합체를 9
27 27
제18항에 있어서,상기 제1 유기용매는 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP)이고,상기 소수성 고분자는 폴리비닐리덴플루오라이드-코-클로로트리플루오로에틸렌(Poly(vinylidenefluoride-co-chlorotrifluoroethylene), P(VDF-co-CTFE))이고,상기 친수성 고분자는 2-비닐피리딘(2-vinylpyridine)이고,상기 양친성 가지형 공중합체를 제조하는 단계는 상기 소수성 고분자 및 친수성 고분자를 6:4 내지 5:5 중량비로 중합하는 것이고,상기 촉매는 CuCl이고,상기 중합개시제는 1,1,4,7,10,10-헥사메틸렌트리에틸렌테트라민(1,1,4,7,10,10-Hexamethyltriethylenetetramine, HMTETA)이고,상기 양친성 가지형 공중합체를 제조하는 단계는 80 내지 100 ℃에서 18 내지 22 시간 동안 원자이동라디칼 중합시키는 것이고,상기 제2 유기용매는 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP)이고,상기 불소계 고분자는 폴리(비닐리덴 플루오라이드-코-클로로트리플루오로에틸렌)(poly(vinylidene fluoride-co-chlorotrifluoroethylene, P(VDF-co-CTFE))이고,상기 고분자 캐스팅 용액은 불소계 고분자 및 상기 양친성 가지형 공중합체를 9:1 내지 8:2 중량비로 혼합하는 것인 고분자막의 제조방법
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1 교육부 연세대학교 산학협력단 이공학개인기초연구지원사업 물질이동과 전기전달의 대비논법을 통한 가속화된 이중상 멤브레인 개발