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비휘발성 메모리 소자 및 이를 포함하는 래치

  • 기술번호 : KST2022011255
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 실시예에 의한 비휘발성 메모리 소자: 제1 인버터; 제1 인버터와 크로스 커플(cross coupled)된 제2 인버터; 및 비휘발성 메모리 회로를 포함하고, 비휘발성 메모리 회로는 풀 업(pull up) 트랜지스터와, 풀 다운(pull down) 트랜지스터 및 풀 업 트랜지스터와 풀 다운 트랜지스터와 각각 제1 전극 및 제2 전극이 연결된 강유전체 트랜지스터(FeFET, ferroelectric Field Effect Transistor)를 포함한다.
Int. CL G11C 11/22 (2006.01.01) H03K 3/356 (2006.01.01) H01L 27/11509 (2017.01.01)
CPC G11C 11/221(2013.01) G11C 11/2275(2013.01) H03K 3/356008(2013.01) H01L 27/11509(2013.01)
출원번호/일자 1020210018041 (2021.02.09)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2412819-0000 (2022.06.21)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20220623) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.02.09)
심사청구항수 24

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정성욱 서울특별시 서대문구
2 김세건 서울특별시 서대문구
3 오태우 서울특별시 서대문구
4 임세희 서울특별시 서대문구
5 고동한 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한)아이시스 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로**길**, **층, **층(코아렌빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2021-0162690-45
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0933884-15
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.02.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0119875-21
4 등록결정서
Decision to grant
2022.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0444823-49
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번호 청구항
1 1
비휘발성 메모리 소자로, 상기 메모리 소자는:제1 인버터;상기 제1 인버터와 크로스 커플(cross coupled)된 제2 인버터; 및비휘발성 메모리 회로를 포함하고, 상기 비휘발성 메모리 회로는풀 업(pull up) 트랜지스터와, 풀 다운(pull down) 트랜지스터 및 상기 풀 업 트랜지스터와 상기 풀 다운 트랜지스터와 각각 제1 전극 및 제2 전극이 연결된 강유전체 트랜지스터(FeFET, ferroelectric Field Effect Transistor)를 포함하는 메모리 소자
2 2
제1항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 회로는, 상기 풀 업 트랜지스터, 상기 강유전체 트랜지스터 및 상기 풀 다운 트랜지스터가 구동 전압에서 접지 전압까지 직렬로 연결되어 형성된 메모리 소자
3 3
제1항에 있어서,상기 강유전체 트랜지스터는, 게이트 스택 내에 강유전체 물질층이 형성된 메모리 소자
4 4
제1항에 있어서,상기 메모리 소자는,상기 제1 인버터의 입력 노드와 연결된 제1 전송 게이트 및 상기 제2 인버터의 출력 노드와 상기 제1 인버터의 입력 노드에 연결된 제2 전송 게이트(transmission gate)를 더 포함하는 메모리 소자
5 5
제4항에 있어서, 상기 풀 업 트랜지스터와 상기 강유전체 트랜지스터가 연결된 노드는, 상기 제2 전송 게이트 및 상기 제1 인버터의 출력 노드와 연결된 메모리 소자
6 6
제1항에 있어서, 상기 메모리 소자의 구동 전압은 상기 강유전체 트랜지스터에 포함된 강유전체 물질층의 임계 전압(critical voltage) 보다 크거나 같은 전압인 메모리 소자
7 7
제1항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 회로는, 상기 제2 인버터의 출력 전압이 상기 강유전체 트랜지스터의 일 전극에 제공되고, 상기 제1 인버터의 출력 전압이 상기 강유전체 트랜지스터의 게이트 전극에 제공되어 상기 강유전체 트랜지스터가 프로그램되는 메모리 소자
8 8
제1항에 있어서, 상기 상기 풀 다운 트랜지스터 및 풀 업 트랜지스터는 각각의 게이트 전극에 복원(restore) 신호 및 반전 복원 신호가 제공되어 제어되며, 상기 풀 다운 트랜지스터의 면적은 상기 풀 업 트랜지스터의 면적에 비하여 큰 메모리 소자
9 9
제8항에 있어서, 상기 강유전체 트랜지스터가 낮은 저항 상태로 프로그램된 상태에서,상기 복원 신호가 제공되어 상기 풀 다운 트랜지스터가 도통되면 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 메모리 소자
10 10
제8항에 있어서, 상기 강유전체 트랜지스터가 높은 저항 상태로 프로그램된 상태에서,상기 복원 신호가 제공되어 상기 풀 업 트랜지스터가 도통되면 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 메모리 소자
11 11
제1항에 있어서, 상기 풀 업 트랜지스터는 도통되어 상기 비휘발성 메모리 회로의 출력 노드를 프리 차지하는 메모리 소자
12 12
제11항에 있어서, 상기 출력 노드가 프리 차지된 상태 후에, 상기 풀 다운 트랜지스터가 도통되어 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 메모리 소자
13 13
비휘발성으로 데이터를 저장하는 래치로, 상기 래치는:제1 인버터;상기 제1 인버터와 크로스 커플(cross coupled)된 제2 인버터; 풀 업(pull up) 트랜지스터와, 풀 다운(pull down) 트랜지스터 및 상기 풀 업 트랜지스터와 상기 풀 다운 트랜지스터에 각 제1 전극 및 제2 전극이 연결된 강유전체 트랜지스터를 포함하는 비휘발성 메모리 회로; 상기 제1 인버터의 출력을 반전하여 출력하는 제3 인버터 및 상기 제1 인버터의 입력 노드와 연결된 제1 전송 게이트 및 상기 제2 인버터의 출력 노드와 상기 제1 인버터의 입력 노드에 연결된 제2 전송 게이트(transmission gate)를 포함하는 래치
14 14
제13항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 회로는, 상기 풀 업 트랜지스터, 상기 강유전체 트랜지스터 및 상기 풀 다운 트랜지스터가 구동 전압에서 접지 전압까지 직렬로 연결되어 형성된 래치
15 15
제13항에 있어서,상기 강유전체 트랜지스터는, 게이트 스택 내에 강유전체 물질층이 형성된 래치
16 16
제13항에 있어서, 상기 풀 업 트랜지스터와 상기 강유전체 트랜지스터가 연결된 노드는, 상기 제2 전송 게이트 및 상기 제1 인버터의 출력 노드와 연결된 메모리 회로
17 17
제13항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 회로의 구동 전압은 상기 강유전체 트랜지스터에 포함된 강유전체 물질층의 임계 전압(critical voltage) 보다 크거나 같은 전압인 래치
18 18
제13항에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 회로는, 상기 제2 인버터의 출력 전압이 상기 강유전체 트랜지스터의 일 전극에 제공되고, 상기 제1 인버터의 출력 전압이 상기 강유전체 트랜지스터의 게이트 전극에 제공되어 데이터를 저장하는 래치
19 19
제13항에 있어서, 상기 풀 업 트랜지스터 및 상기 풀 다운 트랜지스터는 각각의 게이트 전극에 복원(restore) 신호가 제공되어 제어되며, 상기 풀 다운 트랜지스터의 면적은 상기 풀 업 트랜지스터의 면적에 비하여 큰 래치
20 20
제19항에 있어서, 상기 강유전체 트랜지스터가 낮은 저항 상태로 프로그램된 상태에서,상기 복원 신호가 제공되어 상기 풀 다운 트랜지스터가 도통되면 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 래치
21 21
제19항에 있어서, 상기 강유전체 트랜지스터가 높은 저항 상태로 프로그램된 상태에서,상기 복원 신호가 제공되어 상기 풀 업 트랜지스터가 도통되면 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 래치
22 22
제13항에 있어서, 상기 풀 업 트랜지스터는 도통되어 상기 비휘발성 메모리 회로의 출력 노드를 프리 차지하는 래치
23 23
제22항에 있어서, 상기 출력 노드가 프리 차지된 후에, 상기 풀 다운 트랜지스터가 도통되어 상기 비휘발성 메모리 회로는 상기 강유전체 트랜지스터에 프로그램된 논리 상태에 상응하는 전압을 출력하는 래치
24 24
제13항에 있어서,상기 래치는 플립 플롭에 포함되며, 상기 래치는 플립 플롭의 마스터 래치 및 슬레이브 래치 중 어느 하나인 래치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 혁신성장연계지능형반도체선도기술개발(R&D) 전기 다이폴 스위칭이 가능한 소재, 3단자 소자 및 아키텍처 연구