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하기 화학식 1 또는 화학식 2로서 표시되는, 인돌린 유도체:[화학식 1][화학식 2]상기 화학식 1 및 2에서, R1은 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬이거나 할로겐이고, R2는 치환될 수 있는 토실기 또는 설포닐기이거나 벤질이고, 상기 치환은 C1-C6의 알킬, C6-C20의 아릴, O, S, Se, F, Cl, Br, I 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것에 의해 치환되는 것이다
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제 1 항에 있어서, 상기 R1은 H, 메틸, 메톡시, F, Cl, Br, I 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 인돌린 유도체
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제 1 항에 있어서, 상기 R2는 메틸페닐, 페닐, 나프탈렌, 부탄, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것이 치환된 토실기 또는 설포닐기인 것인, 인돌린 유도체
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제 1 항에 있어서, 상기 인돌린 유도체는 하기 화합물 중 어느 하나를 선택하는 것인, 인돌린 유도체: ;;;;;
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하기 화학식 3으로서 표시되는 화합물; 하기 화학식 4로서 표시되는 화합물; 및붕소 촉매;를 용매 하에서 반응시키는 것을 포함하는 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법: [화학식 3][화학식 4]상기 화학식 3 및 4에서, R1은 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬이거나 할로겐이고, R2는 치환될 수 있는 토실기 또는 설포닐기이거나 벤질이고, R3 내지 R5는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, 상기 치환은 C1-C6의 알킬, C6-C20의 아릴, O, S, Se, F, Cl, Br, I 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것에 의해 치환되는 것이다
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제 5 항에 있어서, 상기 R3 내지 R5는 각각 독립적으로 H, 메틸, 에틸, 벤질, 페닐 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 상기 붕소 촉매는 B(C6F5)3인 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 상기 용매는 디클로로벤젠, 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로메테인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 상기 반응은 50℃ 내지 150℃의 온도 하에서 이루어지는 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 상기 반응은 1 시간 내지 100 시간 동안 이루어지는 것인, 인돌린 유도체의 제조 방법
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