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1
적어도 하나의 히드록시기를 포함하는 화합물, 이온성화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나로 2차원 맥신의 외부 표면이 개질된 것인,표면 개질 2차원 맥신
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청구항 1에 있어서,상기 2차원 맥신은 Mn+1Xn의 실험식을 갖는 복수의 결정 셀(crystal cells)이 2차원 어레이를 이룬 층(layer)을 적어도 하나 이상 포함하며,각각의 X는 복수 개의 M으로 이루어지는 8면체 어레이 내에 위치하고,상기 M은 IIIB족 금속, IVB족 금속, VB족 금속 및 VIB 족 금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 금속이며,상기 각각의 X는 C, N 및 이들의 조합으로부터 선택된 하나이고,상기 n은 1, 2 또는 3인 것인, 표면 개질된 2차원 맥신
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청구항 1에 있어서,상기 2차원 맥신은 M'2M"nXn+1의 실험식을 갖는 복수의 결정 셀(crystal cells)이 2차원 어레이를 이룬 층(layer)을 적어도 하나 이상 포함하며,각각의 X는 복수 개의 M' 및 M"로 이루어지는 8면체 어레이 내에 위치하고,상기 M' 및 M"은 IIIB족 금속, IVB족 금속, VB족 금속 및 VIB 족 금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 서로 상이한 금속이며,상기 각각의 X는 C, N 또는 이들의 조합이고,상기 n은 1 또는 2인, 표면 개질된 2차원 맥신
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4
청구항 1에 있어서,상기 히드록시기를 포함하는 화합물은 디올계 화합물, 보론산계 화합물, 카르복실산계 화합물, 설폰산계 화합물, 설핀산계 화합물, 하기의 화학식 1인 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것인,표면 개질 2차원 맥신:[화학식 1]
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청구항 4에 있어서,상기 디올계 화합물은 하기의 화학식 2인 것인,표면 개질 2차원 맥신:[화학식 2]상기 R1, R2, R3 및 R4 각각은 수소, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 아릴기, 탄소수 3 내지 7의 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알켄기, 및 하기의 화학식 2a 및 화학식 2b로 표시되는 치환기이고,[화학식 2a][화학식 2b]상기 “*”은 연결지점을 의미하고,상기 Y-1는 O 또는 S이며,상기 Y2 및 Y3 각각은 -F, -Cl, -Br, -I, -OH, -SH, -NR6R7R8이며,상기 R6, R7 및 R8 각각은 수소, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 아릴기, 탄소수 3 내지 7의 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알켄기이다
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6
청구항 5에 있어서,상기 화학식 2는 하기의 화학식 2-1 내지 2-5 중 어느 하나인 것인, 표면 개질 2차원 맥신:[화학식 2-1][화학식 2-2][화학식 2-3][화학식 2-4][화학식 2-5]
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7
청구항 4에 있어서,상기 보론산계 화합물은 하기의 화학식 3인 것인 표면 개질 2차원 맥신:[화학식 3]R9는 히드록시기, 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알케닐기, 탄소수 3 내지 15의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 안트라센닐기, 치환 또는 비치환된 피렌닐기, 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된 티오페닐기, 치환 또는 비치환된 퓨란닐기, 치환 또는 비치환된 피라조릴기 및 치환 또는 비치환된 피롤릴기이다
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8
청구항 7에 있어서,상기 화학식 3은 하기의 화합물 3-1 내지 3-42 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인,표면 개질 2차원 맥신;[화학식 3-1][화학식 3-2][화학식 3-3][화학식 3-4][화학식 3-5][화학식 3-6][화학식 3-7][화학식 3-8][화학식 3-9][화학식 3-10][화학식 3-11][화학식 3-12][화학식 3-13][화학식 3-14][화학식 3-15][화학식 3-16][화학식 3-17][화학식 3-18][화학식 3-19][화학식 3-20][화학식 3-21][화학식 3-22][화학식 3-23][화학식 3-24][화학식 3-25][화학식 3-26][화학식 3-27][화학식 3-28][화학식 3-29][화학식 3-30][화학식 3-31][화학식 3-32][화학식 3-33][화학식 3-34][화학식 3-35][화학식 3-36][화학식 3-37][화학식 3-38][화학식 3-39][화학식 3-40][화학식 3-41][화학식 3-42]
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9
청구항 4에 있어서,상기 카르복실산계 화합물은 하기의 화학식 4, 하기 화학식 4-1 내지 4-3 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것인,표면 개질 2차원 맥신;[화학식 4][화학식 4-1][화학식 4-2][화학식 4-3]R10은 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 디엔닐기, 탄소수 3 내지 15의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 안트라센닐기, 치환 또는 비치환된 피렌닐기, 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된 티오페닐기, 치환 또는 비치환된 퓨란닐기, 치환 또는 비치환된 피라조릴기 및 치환 또는 비치환된 피롤릴기이다
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10
청구항 9에 있어서,상기 화학식 4는 하기의 화합물 4-4 내지 4-13 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 표면 개질 2차원 맥신:[화학식 4-4][화학식 4-5][화학식 4-6][화학식 4-7][화학식 4-8][화학식 4-9][화학식 4-10][화학식 4-11][화학식 4-12][화학식 4-13]
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청구항 4에 있어서,상기 설폰산계 화합물은 하기의 화학식 5인 것인 표면 개질 2차원 맥신;[화학식 5]상기 R11은 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 디엔닐기, 탄소수 3 내지 15의 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 안트라센닐기, 치환 또는 비치환된 피렌닐기, 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된 티오페닐기, 치환 또는 비치환된 퓨란닐기, 치환 또는 비치환된 피라조릴기, 치환 또는 비치환된 피롤릴기, 치환 또는 비치환된 벤조티오펜닐기, 치환 또는 비치환된 벤조이미다졸기 및 치환 또는 비치환된 디히드로벤조퓨란기이다
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12
청구항 11에 있어서,상기 화학식 5는 하기 화학식 5-1 내지 5-13 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것인,표면 개질 2차원 맥신:[화학식 5-1][화학식 5-2][화학식 5-3][화학식 5-4][화학식 5-5][화학식 5-6][화학식 5-7][화학식 5-8][화학식 5-9][화학식 5-10][화학식 5-11][화학식 5-12][화학식 5-13]
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청구항 4에 있어서,상기 설핀산계 화합물은 하기의 화학식 6인 것인,표면 개질 2차원 맥신:[화학식 6]
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14
청구항 1에 있어서,상기 이온성화합물은 이미다졸리움계 화합물, 피리디늄계 화합물, 암모늄계 화합물, 포스피늄계 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 양이온; 및 F-, Cl-, Br-, I-, BF4-, PF6-, (CF3SO2)2N-, CF3SO3-, C2N3-, CH3SO3-, CF3BF3-, C2F5BF3-, NO3-, CF3CO2-, C3H5O3-, C7H5O2-, 및 이들의 조합으로 선택된 하나인 음이온을 포함하는 것인,표면 개질 2차원 맥신:
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15
청구항 14에 있어서,상기 양이온은 하기의 화학식 7 내지 9 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것인,표면 개질 2차원 맥신;[화학식 7]상기 R12, R13 및 R14 각각은 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 및 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 10인 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐기이며,[화학식 8]상기 R15 및 R16 각각은 수소 및 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,[화학식 9]상기 Q는 N 또는 P이며,상기 R17, R18, R19 및 R20 각각은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 15인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다
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청구항 15에 있어서,상기 화학식 7은 하기 화학식 7-1 내지 7-10 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것이며,상기 화학식 8은 하기 화학식 8-1 내지 8-2 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것이고,상기 화학식 9는 하기 화학식 9-1 내지 9-6 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것인,표면 개질 2차원 맥신:[화학식 7-1][화학식 7-2][화학식 7-3][화학식 7-4][화학식 7-5][화학식 7-6][화학식 7-7][화학식 7-8][화학식 7-9][화학식 7-10][화학식 8-1][화학식 8-2][화학식 9-1][화학식 9-2][화학식 9-3][화학식 9-4][화학식 9-5][화학식 9-6]
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청구항 1의 표면 개질 2차원 맥신 제조방법에 있어서,산 에칭 공정으로 상기 2차원 맥신이 분산된 맥신 수용액을 수득하는 제1 단계;적어도 하나의 히드록시기를 포함하는 화합물, 이온성화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나를 물 또는 유기용매에 분산시킨 혼합물을 준비하는 제2 단계; 및 상기 제1 단계로 수득된 맥신 수용액과 상기 제2 단계의 혼합물을 혼합 및 교반하여 상기 2차원 맥신의 외부 표면을 개질시키는 제3 단계;를 포함하는, 표면 개질 2차원 맥신 제조방법
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