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나노 리소그래피 장치

  • 기술번호 : KST2022011527
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 미세 패턴을 형성하기 위한 대상체가 안착되는 스테이지; 빔을 발생시키는 빔 발생장치; 상기 빔 발생장치로부터 발생된 빔이 상기 스테이지에 위치한 대상체에 나노 크기의 모양을 가지고 도달하도록 상기 빔을 투과시키는 마스크; 및 상기한 구성들이 수용되는 공정 챔버; 를 포함하는 나노 리소그래피 장치를 제공한다.
Int. CL G03F 7/20 (2006.01.01)
CPC G03F 7/70008(2013.01) G03F 7/70058(2013.01)
출원번호/일자 1020200165882 (2020.12.01)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0076913 (2022.06.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.01)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황찬국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인빛과소금 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로**, *동 ***호(가산동, 롯데IT캐슬)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2020-1299882-72
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0484583-13
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번호 청구항
1 1
미세 패턴을 형성하기 위한 대상체가 안착되는 스테이지;빔을 발생시키는 빔 발생장치;상기 빔 발생장치로부터 발생된 빔이 상기 스테이지에 위치한 대상체에 나노 크기의 모양을 가지고 도달하도록 상기 빔을 투과시키는 마스크; 및상기한 구성들이 수용되는 공정 챔버; 를 포함하는 것을 특징으로 하는나노 리소그래피 장치
2 2
상기 빔 발생장치로부터 발생되는 빔은, 연X-선(Soft X-ray), UV(Ultraviolet) 및 전자빔(Electron Beam) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는나노 리소그래피 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 포항공과대학교 미래소재디스커버리지원(R&D) 반데르발스 층상 소재 기반 단일 3차원 집적 트랜지스터 및 적외선 이미지 센서 개발
2 과학기술정보통신부 포항공과대학교 나노·소재기술개발(R&D) 방사광 기반 에너지·환경 나노소재 실시간 구조 분석기술 개발
3 과학기술정보통신부 포항공과대학교 집단연구지원(R&D) 토폴로지 물질 연구센터