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액정을 이용한 표면 분석 방법

  • 기술번호 : KST2022011593
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시 예에 따른 표면 분석 방법은 나노 패턴이 형성된 기판 표면에 액정 분자를 포함하는 액정층을 도포하는 도포 단계; 편광현미경을 이용해 상기 기판을 스캐닝하는 스캐닝 단계; 및 상기 스캐닝 단계에서 관찰된 이미지를 분석하여, 상기 기판의 결함을 분석하는 분석 단계; 를 포함하는 표면 분석 방법을 개시한다.
Int. CL G01B 11/30 (2006.01.01) G01J 1/04 (2006.01.01) G01N 21/95 (2006.01.01) G01N 21/958 (2006.01.01) G01N 21/956 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020210095356 (2021.07.21)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0012820 (2022.02.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020200091448   |   2020.07.23
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.07.21)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영기 경상북도 포항시 남구
2 노용영 대전광역시 유성구
3 김원식 광주광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 백두진 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층(양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
2 유광철 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** *층 (양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
3 김정연 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** *층(양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
4 권성현 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** 혜산빌딩 *층(시공특허법률사무소)
5 강일신 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층 혜산빌딩(양재동)(시공특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2021-0839912-87
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번호 청구항
1 1
나노 패턴이 형성된 기판 표면에 액정 분자를 포함하는 액정층을 도포하는 도포 단계;편광현미경을 이용해 상기 기판을 스캐닝하는 스캐닝 단계; 및상기 스캐닝 단계에서 관찰된 이미지를 분석하여, 상기 기판의 결함을 분석하는 분석 단계; 를 포함하는 표면 분석 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 스캐닝 단계에서,상기 편광현미경은,상기 기판으로 광을 조사하는 광원;상기 기판을 투과한 광을 편광시키는 편광자;상기 편광자에 의해 편광된 광을 관찰하는 현미경; 및상기 현미경을 통해 관찰된 이미지를 출력하는 디스플레이를 포함하는 표면 분석 방법
3 3
제 2항에 있어서,상기 분석 단계에서는상기 스캐닝 단계에서 관찰된 이미지 중,블랙 영역을 정상으로 분석하고,화이트 영역을 비정상으로 분석하는 표면 분석 방법
4 4
제 2항에 있어서,상기 스캐닝 단계는,상기 기판을 스캐닝하는 제1스캐닝 단계; 및회전시킨 상기 기판을 스캐닝하는 제2스캐닝 단계; 를 포함하는 표면 분석 방법
5 5
제 4항에 있어서,상기 분석 단계에서는,상기 제1스캐닝 단계에서 관찰된 이미지 및 상기 제2스캐닝 단계에서 관찰된 이미지가 동일한 경우,상기 나노 패턴에 상기 액정 분자가 수직 배향한 것으로 분석하는 표면 분석 방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 분석 단계에서는,상기 나노 패턴에 상기 액정 분자가 수직 배향한 것으로 분석하면,상기 나노 패턴의 폭이 기설정된 임계폭보다 작은 것으로 분석하는 표면 분석 방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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2 과학기술정보통신부 포항공과대학교 개인기초연구(과기정통부)(R&D) 메소게닉 유연주형을 이용한 1차원 페로브스카이트 (나노와이어) 합성법 개발
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