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연속적인 임프린트 공정을 통해 미세 패턴을 정렬시켜 대면적화 하는 대면적 패턴 제작용 몰드에 있어서,마스터 기판에 패턴을 복제하는 영역인 제1 영역과,상기 마스터 기판에 복제된 이전 패턴 영역의 형상과 겹쳐지는 형상을 가지며, 제1 방향을 따라 상기 제1 영역을 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 영역인 제2 영역과,상기 마스터 기판에 복제된 이전 패턴 영역의 형상과 겹쳐지는 형상을 가지고 상기 이전 패턴 영역과 결합되며, 상기 제1 방향의 수직 방향인 제2 방향을 따라 상기 제1 영역을 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 영역인 제3 영역을 포함하고,상기 제2 영역 및 제3 영역 중 적어도 어느 하나가 상기 이전 패턴 영역과 겹쳐지면, 상기 다음 패턴 영역은 상기 이전 패턴 영역과의 경계에서 연속적인 패턴이 나타나도록 제1 내지 제3 영역 간 거리가 설정되고,상기 제1 내지 제3 영역은 각각 일정 거리 이격되어 별도의 독립 영역으로 형성되고,상기 제1 및 제2 영역의 제1 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제2 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같고,상기 제1 및 제3 영역의 제2 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제3 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같은 것을 특징으로 하는,대면적 패턴 제작용 몰드
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제 3 항에 있어서,상기 제2 영역 또는 제3 영역의 패턴 형상은 상기 이전 패턴 영역의 형상과 역상 관계인 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드
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제 3 항에 있어서,상기 제1 영역 내지 제3 영역의 패턴 형상은 음각의 격벽 구조가 배열된 형상인 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드
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제 3 항에 있어서,상기 제1 영역 내지 제3 영역의 패턴 형상은 다각형의 격벽 구조가 배열된 형상인 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드
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제 3 항에 있어서,상기 제1 영역 내지 제3 영역을 제외한 나머지 영역으로 UV광을 차단하는 영역인 제4 영역을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드
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제 9 항에 있어서,상기 제4 영역은 크롬으로 증착되는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드
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몰드용 기판에 제1 영역 내지 제3 영역을 제외한 나머지 영역에 UV광 차단물질을 증착하는 단계;상기 UV광 차단물질이 증착된 몰드용 기판의 일면에 레진을 도포하는 단계;상기 레진이 도포된 몰드용 기판의 일면에 마스터 몰드를 가압하는 단계;상기 몰드용 기판에 UV광을 조사하여 레진을 경화시키는 단계; 및상기 마스터 몰드를 제거하는 단계;를 포함하고,상기 제1 영역은 마스터 기판에 패턴을 복제하는 영역이고, 상기 제2 영역은 상기 마스터 기판에 복제된 이전 패턴 영역의 형상과 겹쳐지는 형상을 가지고 제1 방향을 따라 상기 제1 영역을 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 영역이며, 상기 제3 영역은 상기 마스터 기판에 복제된 이전 패턴 영역의 형상과 겹쳐지는 형상을 가지고 상기 제1 방향의 수직 방향인 제2 방향을 따라 상기 제1 영역을 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 영역이며,상기 제2 영역 및 제3 영역 중 적어도 어느 하나가 상기 이전 패턴 영역과 겹쳐지면, 상기 다음 패턴 영역은 상기 이전 패턴 영역과의 경계에서 연속적인 패턴이 나타나도록 제1 내지 제3 영역 간 거리가 설정되고,상기 제1 내지 제3 영역은 각각 일정 거리 이격되어 별도의 독립 영역으로 형성되고,상기 제1 및 제2 영역의 제1 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제2 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같고,상기 제1 및 제3 영역의 제2 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제3 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같은 것을 특징으로 하는,대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,제1 방향을 따라 상기 제2 영역의 일측에 제1 영역이 위치하는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 제1 방향의 수직 방향인 제2 방향을 따라 상기 제3 영역의 일측에 제1 영역이 위치하는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 마스터 몰드의 가압에 의해 상기 제1 내지 제3 영역에는 음각의 패턴 형상이 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 몰드용 기판에 레진이 도포되기 전 상기 UV광 차단물질이 증착된 몰드용 기판의 일면에 열 경화 표면 처리하는 단계;를 더 포함하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 UV광 차단물질은 크롬인 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제1 영역 내지 제3 영역에 패턴이 형성된 후 이형 처리하는 단계;를 더 포함하는 대면적 패턴 제작용 몰드의 제조 방법
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몰드용 기판에 형성된 패턴 복제 영역인 제1 영역을 이용하여 마스터 기판에 패턴을 복제하는 단계;상기 몰드용 기판에 형성된 패턴 정렬 영역인 제2 영역을 상기 마스터 기판에 형성된 이전 패턴 영역에 겹쳐 제1 영역을 상기 마스터 기판의 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 단계; 상기 몰드용 기판에 형성된 패턴 정렬 영역인 제3 영역을 상기 마스터 기판에 형성된 이전 패턴 영역에 겹쳐 제1 영역을 상기 마스터 기판의 다음 패턴 영역에 위치하도록 정렬시키는 단계;를 포함하고,상기 제1 영역과 제2 영역은 수평 방향인 제1 방향을 따라 형성되고, 상기 제1 영역과 제3 영역은 수직 방향인 제2 방향을 따라 형성되며, 상기 제2 영역 및 제3 영역 중 적어도 어느 하나가 상기 이전 패턴 영역과 겹쳐지면, 상기 다음 패턴 영역은 상기 이전 패턴 영역과의 경계에서 연속적인 패턴이 나타나도록 제1 내지 제3 영역 간 거리가 설정되고,상기 제1 내지 제3 영역은 각각 일정 거리 이격되어 별도의 독립 영역으로 형성되고,상기 제1 및 제2 영역의 제1 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제2 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같고,상기 제1 및 제3 영역의 제2 방향으로 배치된 모서리를 기준으로, 상기 제1 영역의 내측 모서리부터 상기 제3 영역의 외측 모서리까지의 길이는 상기 제1 영역의 내외측 모서리 간 길이와 같은 것을 특징으로 하는,대면적 패턴 제작용 몰드를 이용한 패턴 성형 방법
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제 20 항에 있어서,상기 제3 영역의 일측 끝단과 상기 이전 패턴 영역의 일측 끝단이 서로 일치되도록 겹치는 것을 특징으로 하는 대면적 패턴 제작용 몰드를 이용한 패턴 성형 방법
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