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하기 화학식 1로 표시되는 벤젠설폰아미드 유도체, 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염:[화학식 1]상기 화학식 1에서, R은 (C1~C4)알킬, (C1~C4)알콕시, 할로겐 또는 수소로 이루어진 군에서 선택되고, A는 벤젠, 나프틸 또는 안트라세닐로 이루어진 군에서 선택되고, X는 수소, 할로겐, (C1~C4)알킬, (C1~C4)알콕시 또는 페닐로 이루어진 군에서 선택됨
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청구항 1에 있어서, 상기 유도체는 R은 (C1~C4)알킬이고, A는 나프틸이고, X는 수소인 것을 특징으로 하는 벤젠설폰아미드 유도체
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청구항 1에 있어서, 상기 유도체는 4-메틸-N-2-(나프탈렌-1-일)벤조[d]옥사졸-5-일)벤젠설폰아미드 [4-methyl-N-2-(naphthalene-1-yl)benzo[d]oxazol-5-yl)benzenesulfonamide]인 것을 특징으로 하는 벤젠설폰아미드 유도체
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하기 화학식 1로 표시되는 벤젠설폰아미드 유도체, 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하는 방사선 방호용 조성물
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청구항 4에 있어서, 상기 유도체는 R은 (C1~C4)알킬이고, A는 나프틸이고, X는 수소인 것을 특징으로 하는 방사선 방호용 조성물
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청구항 4에 있어서, 상기 유도체는 4-메틸-N-2-(나프탈렌-1-일)벤조[d]옥사졸-5-일)벤젠설폰아미드 [4-methyl-N-2-(naphthalene-1-yl)benzo[d]oxazol-5-yl)benzenesulfonamide]인 것을 특징으로 하는 방사선 방호용 조성물
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청구항 4에 있어서, 상기 유도체는 세포의 생존에는 영향을 미치지 않으면서 방사선이 조사된 세포에서 COX2, NOX4, PLA2G4B, CYP1B1 및 CYP2E1으로 이루어진 군에서 선택되는 유전자의 발현을 억제하여 염증반응 및 활성산소 생성을 저해시켜 세포를 보호하는 것을 특징으로 하는 방사선 방호용 조성물
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하기 화학식 1로 표시되는 벤젠설폰아미드 유도체, 또는 약제학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하는 방사선 피폭에 의한 세포 손상 예방 또는 완화용 약학조성물
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청구항 8에 있어서, 상기 유도체는 R은 (C1~C4)알킬이고, A는 나프틸이고, X는 수소인 것을 특징으로 하는 방사선 피폭에 의한 세포 손상 예방 또는 완화용 약학조성물
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청구항 8에 있어서, 상기 유도체는 4-메틸-N-2-(나프탈렌-1-일)벤조[d]옥사졸-5-일)벤젠설폰아미드 [4-methyl-N-2-(naphthalene-1-yl)benzo[d]oxazol-5-yl)benzenesulfonamide]인 것을 특징으로 하는 방사선 피폭에 의한 세포 손상 예방 또는 완화용 약학조성물
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청구항 8에 있어서, 상기 방사선 피폭은 항암 치료를 위한 방사선 치료인 것을 특징으로 하는 세포 손상 예방 또는 완화용 약학조성물
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청구항 8에 있어서, 상기 약학조성물은 방사선 피폭 전에 투여되는 것을 특징으로 하는 세포 손상 예방 또는 완화용 약학조성물
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