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애노드 기판의 상면에 증착된 정공 이동층의 상면에 제 1 발광층을 증착하는 제 1 발광층 증착 단계와,상기 제 1 발광층을 레이저 쉐이빙을 통하여 식각하여 제 1 발광 소자를 형성하는 제 1 발광 소자 형성 단계와,제 1 발광 소자의 주변으로 노출되는 정공 이동층의 상면을 포함하는 영역에 제 2 발광층을 증착하는 제 2 발광층 증착 단계와,상기 제 2 발광층을 식각하여 제 2 발광 소자를 형성하는 제 2 발광 소자 형성 단계와,상기 제 1 발광 소자와 제 2 발광 소자의 주변으로 노출되는 정공 이동층의 상면을 포함하는 영역에 제 3 발광층을 증착하는 제 3 발광층 증착 단계 및상기 제 3 발광층을 식각하여 제 3 발광 소자를 형성하는 제 3 발광 소자 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 3 발광 소자 형성 단계후에 상기 제 1 발광 소자와 제 2 발광 소자의 상면을 추가로 식각하는 발광 소자 식각 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 발광 소자 식각 단계는 제 3 발광 소자 형성 단계후에 상기 제 3 발광 소자의 상면도 함께 식각하는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 3 항에 있어서,제 1 발광층은 제 1 발광 소자의 두께보다 1 ∼ 20% 두꺼운 두께로 증착되고, 제 2 발광층은 제 2 발광 소자의 두께보다 1 ∼ 20% 두꺼운 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 제 1 발광층과 제 2 발광층은 제 3 발광층보다 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 제 1 발광층과 제 2 발광층은 제 3 발광층의 두께보다 1 ∼ 20% 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 발광 소자 형성 단계와 상기 제 2 발광 소자 형성 단계 및 제 3 발광 소자 형성 단계는 상기 애노드 기판을 냉각하거나, 상기 발광층의 상부로 냉각 가스를 분사하면서 진행되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 레이저가 조사되는 영역으로 불활성 가스를 블로잉하면서 진행되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 레이저는 텔레센트릭 렌즈를 통하여 조사되는 것을 특징으로 하는 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 따른 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법에 의하여 제조되는 OLED
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 따른 레이저 쉐이빙을 이용한 OLED 제조 방법을 적용하기 위한 제조 장치로서,애노드 기판에 유기물을 증착하는 유기물 증착 모듈과,상기 애노드 기판을 안착시키는 기판 지지대의 하부에 위치하며 상기 애노드 기판을 필요한 온도로 냉각시키는 기판 냉각 모듈과,상기 레이저를 조사하는 레이저 조사 모듈 및상기 레이저가 조사되는 영역으로 불활성 가스를 블로잉하는 가스 블로잉 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED 제조 장치
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