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기판; 상기 기판 상에 형성되는 제1 전극; 상기 제1 전극 상에 형성되는 TiO2 박막을 포함하는 정공차단층; 상기 정공차단층 상에 형성되는 메조포러스(mesoporous) TiO2 박막을 포함하는 전자수송층; 상기 전자수송층 상에 형성되는 광흡수층; 상기 광흡수층상에 형성되는 정공수송층; 및 상기 정공수송층 상에 형성되는 제2 전극을 포함하고; 상기 정공차단층과 접촉하는 상기 제1 전극의 표면은 평탄하도록 기계적 연마되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지
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제1 항에 있어서, 상기 제1 전극은 FTO를 포함하는 투명전극인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지
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제2항에 있어서, 상기 제1 전극은, 상기 제1 전극 상에 상기 정공수송층을 배치하기 이전에 무기 연마 슬러리로 5분 이상 15분 미만 기계적 연마되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지
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제3항에 있어서, 상기 무기 연마 슬러리는 Al2O3를 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지
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기계적 연마 장치의 패드면에 Al2O3를 포함하는 무기 연마 슬러리를 분산시키는 단계; 투명 전극이 증착된 기판의 일면을 상기 패드면과 대응하도록 배치하는 단계; 상기 슬러리가 분산된 패드면을 회전시키는 단계; 회전하고 있는 상기 패드면에 상기 투명전극이 증착된 기판의 일면을 접촉시켜 투명 전극의 표면을 연마하는 단계; 및 상기 기판을 세정하고 건조시키는 단계를 포함하는 페로브스카이트 태양전지 기판 표면 처리 방법
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제5 항에 있어서, 상기 투명 전극은 FTO(Florine doped Tin Oxide)를 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지 기판 표면 처리 방법
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제6항에 있어서, 회전하고 있는 상기 패드면에 상기 투명전극이 증착된 기판의 일면을 접촉시켜 투명 전극의 표면을 연마하는 단계는, 상기 연마 단계를 5분 이상~15분 미만 수행하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지 기판 표면 처리 방법
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제5 항에 있어서, 상기 패드면의 회전속도는 200rpm인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 태양전지 기판 표면 처리 방법
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