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홀로그램을 구현하기 위한 회절 광학 소자에 있어서,반사층이 증착된 복수의 층을 가지는 제1 나노 기둥을 포함하는 복수의 나노 기둥; 및상기 복수의 나노 기둥이 배치되는 기판을 포함하고,상기 제1 나노 기둥의 a층의 폭은 a-1층의 폭보다 작고,상기 a층에 증착된 제1 반사층은 상기 a-1층에 증착된 제2 반사층과 연결되지 않는회절 광학 소자
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제1항에 있어서,상기 복수의 나노 기둥은 반사층이 증착된 복수의 층을 가지는 제2 나노 기둥을 포함하고,상기 제1 나노 기둥과 상기 제2 나노 기둥의 높이 차는 상기 홀로그램의 구현 이미지에 따라 계산되는회절 광학 소자
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제2항에 있어서,상기 제2 나노 기둥의 b층의 폭은 b-1층의 폭보다 작고,상기 b층에 증착된 제3 반사층은 상기 b-1층에 증착된 제4 반사층과 연결되지 않는회절 광학 소자
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제2항에 있어서,상기 제1 나노 기둥의 높이는 상기 제2 나노 기둥의 높이보다 크고,상기 제1 나노 기둥의 회절 각도는 상기 제2 나노 기둥의 회절 각도보다 큰회절 광학 소자
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제1항에 있어서,상기 반사층의 두께는 100nm 이하이고,상기 제1 나노 기둥의 피치는 1000nm 이하인회절 광학 소자
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홀로그램을 구현하기 위한 회절 광학 소자에 있어서,상기 홀로그램을 위한 복수의 나노 기둥을 포함하는 기판; 및상기 기판 상에 형성된 제1 철(凸)부 및 상기 제1 철부 상에 형성된 제2 철부를 가지는 제1 나노 기둥 및 상기 기판 상에 형성된 제3 철부를 가지는 제2 나노 기둥을 포함하는 복수의 나노 기둥을 포함하고,상기 제1 철부 및 상기 제3 철부의 높이는 동일하고,상기 제1 철부 상에 증착된 제1 반사층과 상기 제2 철부 상에 증착된 제2 반사층은 서로 연결되지 않고,상기 제3 철부 상에 증착된 제3 반사층과 상기 기판 상에 증착된 제4 반사층은 서로 연결되지 않는회절 광학 소자
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제6항에 있어서,상기 제1 반사층 및 상기 제2 반사층은 상기 제4 반사층과 연결되지 않는회절 광학 소자
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제6항에 있어서,상기 제1 철부의 폭은 상기 제2 철부의 폭보다 큰회절 광학 소자
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제6항에 있어서,상기 제1 철부의 폭은 상기 제3 철부의 폭과 동일한회절 광학 소자
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홀로그램을 구현하기 위한 회절 광학 소자를 제작하는 방법에 있어서,기판의 제1 영역 및 제2 영역을 패터닝하는 단계;상기 제1 영역 내의 제3 영역을 패터닝하여 중간체를 형성하는 단계;상기 중간체를 기초로 몰드를 형성하는 단계;상기 몰드를 기초로 회절 광학 소자를 제작하는 단계; 및상기 회절 광학 소자의 표면 상에 반사층을 증착하는 단계를 포함하고,상기 제1 영역의 폭은 상기 제3 영역의 폭보다 넓되, 상기 제2 영역의 폭과 동일하고,상기 제1 영역 상에 증착된 반사층은 상기 제2 영역 상에 증착된 반사층과 연결되지 않는회절 광학 소자 제작 방법
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제10항에 있어서,상기 회절 광학 소자의 상기 제3 영역을 투과하는 제1 광의 회절 각도는 상기 제2 영역을 투과하는 제2 광의 회절 각도보다 큰회절 광학 소자 제작 방법
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제10항에 있어서,상기 반사층의 두께는 100nm 이하이고,상기 제1 영역의 폭은 1000nm 이하인회절 광학 소자 제작 방법
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