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서로 다른 파장을 갖는 광들을 합성한 광을 이용한 오브젝트 스캔 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2022013448
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 오브젝트를 스캔하기 위해, 제1 파장을 갖도록 방출된 제1 레이저 광 및 제1 파장과 상이한 제2 파장을 갖도록 방출된 제2 레이저 광을 제1 빔 스플리터를 통해 병합함으로써 합성 광을 생성하고, 합성 광을 제2 빔 스플리터를 통해 제1 합성 광 및 제2 합성 광으로 분리하고, 제1 광학계를 통해 전달되는 제1 합성 광을 카메라를 통해 수신하고, 제2 광학계를 통해 제2 합성 광을 오브젝트에 조사하고, 제2 합성 광이 오브젝트에 의해 반사되어 나타나는 제2 반사 합성 광을 카메라를 통해 수신하고, 제1 합성 광 및 제2 반사 합성 광 간의 간섭에 의해 카메라 상에 나타나는 간섭 패턴을 촬영하고, 간섭 패턴에 기초하여 오브젝트에 대한 깊이 정보를 획득함으로써 오브젝트를 스캔한다.
Int. CL G01B 11/25 (2006.01.01)
CPC G01B 11/2536(2013.01) G01B 11/2545(2013.01) G01B 11/2527(2013.01)
출원번호/일자 1020200183351 (2020.12.24)
출원인 재단법인 구미전자정보기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0072691 (2022.06.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020200160372   |   2020.11.25
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.24)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 구미전자정보기술원 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 우성수 경상북도 구미시
2 구정식 경상북도 구미시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-1410680-84
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.05.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
전자 시스템에 의해 수행되는, 오브젝트 스캔 방법은,제1 파장을 갖도록 방출된 제1 레이저 광 및 상기 제1 파장과 상이한 제2 파장을 갖도록 방출된 제2 레이저 광을 제1 빔 스플리터를 통해 병합함으로써 합성 광을 생성하는 단계;상기 합성 광을 제2 빔 스플리터를 통해 제1 합성 광 및 제2 합성 광으로 분리하는 단계;제1 광학계를 통해 전달되는 상기 제1 합성 광을 카메라를 통해 수신하는 단계;제2 광학계를 통해 상기 제2 합성 광을 오브젝트에 조사하는 단계;상기 제2 합성 광이 상기 오브젝트에 의해 반사되어 나타나는 제2 반사 합성 광을 카메라를 통해 수신하는 단계 - 상기 제2 반사 합성 광은 제3 광학계를 통해 상기 카메라로 전달됨 -;상기 제1 합성 광 및 상기 제2 반사 합성 광 간의 간섭에 의해 상기 카메라 상에 나타나는 간섭 패턴을 촬영하는 단계; 및상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트에 대한 깊이 정보를 획득함으로써 상기 오브젝트를 스캔하는 단계를 포함하는,오브젝트 스캔 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 합성 광이 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 카메라까지 진행한 거리는, 상기 제2 합성 광이 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 오브젝트까지 진행한 거리 및 상기 제2 반사 합성 광이 상기 오브젝트로부터 상기 카메라까지 진행한 거리의 합과 동일한,오브젝트 스캔 방법
3 3
제1항에 있어서,제2 광학계를 통해 상기 제2 합성 광을 오브젝트에 조사하는 단계는,TS(translation stage)를 통해 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 오브젝트까지의 상기 제2 합성 광이 진행하는 거리를 조절하는 단계를 포함하는,오브젝트 스캔 방법
4 4
제2항에 있어서,상기 TS를 통해 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 오브젝트까지의 상기 제2 합성 광이 진행하는 거리가 조절됨으로써 상기 카메라에 수신되는 제1 합성 광의 위상과 상기 제2 반사 합성 광 간의 위상 간의 차이가 발생하는,오브젝트 스캔 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트에 대한 깊이 정보를 획득함으로써 상기 오브젝트를 스캔하는 단계는,상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트의 내부 공간에 대한 깊이 정보를 획득하는 단계; 및상기 오브젝트의 내부 공간에 대한 깊이 정보에 기초하여 상기 오브젝트의 내부 공간을 스캔하는 단계를 포함하는,오브젝트 스캔 방법
6 6
제5항에 있어서,상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트의 내부 공간에 대한 깊이 정보를 획득하는 단계는,상기 깊이 정보에 기초하여 상기 내부 공간의 최대 깊이를 결정하는 단계를 포함하는,오브젝트 스캔 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 최대 깊이는 상기 제1 파장 및 상기 제2 파장 간의 차이에 의해 미리 결정되는 상기 전자 시스템의 최대 깊이 측정 범위 이하인,오브젝트 스캔 방법
8 8
하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램
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전자 시스템 내의 전자 장치는,오브젝트를 스캔하는 프로그램이 기록된 메모리; 및상기 프로그램을 수행하는 프로세서를 포함하고,상기 프로그램은,제1 파장을 갖도록 방출된 제1 레이저 광 및 상기 제1 파장과 상이한 제2 파장을 갖도록 방출된 제2 레이저 광을 제1 빔 스플리터를 통해 병합함으로써 합성 광을 생성하도록 되도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계;상기 합성 광을 제2 빔 스플리터를 통해 제1 합성 광 및 제2 합성 광으로 분리하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계;제1 광학계를 통해 전달되는 상기 제1 합성 광을 카메라를 통해 수신하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계는 단계;제2 광학계를 통해 상기 제2 합성 광을 오브젝트에 조사하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계;상기 제2 합성 광이 상기 오브젝트에 의해 반사되어 나타나는 제2 반사 합성 광을 카메라를 통해 수신하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계 - 상기 제2 반사 광은 제3 광학계를 통해 상기 카메라로 전달됨 -;상기 제1 합성 광 및 상기 제2 반사 합성 광 간의 간섭에 의해 상기 카메라 상에 나타나는 간섭 패턴을 촬영하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계; 및상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트에 대한 깊이 정보를 획득함으로써 상기 오브젝트를 스캔하도록 상기 전자 시스템을 제어하는 단계를 수행하는,전자 장치
10 10
전자 시스템은,제1 파장을 갖는 제1 레이저 광을 생성하는 제1 레이저 광원;제2 파장을 갖는 제2 레이저 광을 생성하는 제2 레이저 광원;상기 제1 레이저 광 및 상기 제2 레이저 광을 병합함으로써 합성 광을 생성하기 위한 제1 빔 스플리터;상기 합성 광을 제1 합성 광 및 제2 합성 광으로 분리하기 위한 제2 빔 스플리터;상기 제1 합성 광을 카메라로 전달하는 제1 광학계;상기 제1 광학계를 통해 전달된 상기 제1 합성 광을 수신하는 카메라;상기 제2 합성 광을 오브젝트에 조사하기 위한 제2 광학계;상기 제2 합성 광이 상기 오브젝트에 의해 반사되어 나타나는 제2 반사 합성 광을 상기 카메라로 전달하는 제3 광학계; 및상기 전자 시스템의 동작을 제어하는 전자 장치를 포함하고,상기 카메라는, 상기 제1 합성 광 및 상기 제2 반사 합성 광 간의 간섭에 의해 상기 카메라 상에 나타나는 간섭 패턴을 촬영하고,상기 전자 장치는, 상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트에 대한 깊이 정보를 획득함으로써 상기 오브젝트를 스캔하는,전자 시스템
11 11
제10항에 있어서,상기 제1 합성 광이 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 카메라까지 진행한 거리는, 상기 제2 합성 광이 상기 제2 빔 스플리터로부터 상기 오브젝트까지 진행한 거리 및 상기 제2 반사 합성 광이 상기 오브젝트로부터 상기 카메라까지 진행한 거리의 합과 동일한,전자 시스템
12 12
제10항에 있어서,상기 전자 장치는,상기 간섭 패턴에 기초하여 상기 오브젝트의 내부 공간에 대한 깊이 정보를 획득하고,상기 오브젝트의 내부 공간에 대한 깊이 정보에 기초하여 상기 오브젝트의 내부 공간을 스캔하는,전자 시스템
13 13
제12항에 있어서,상기 전자 장치는, 상기 깊이 정보에 기초하여 상기 내부 공간의 최대 깊이를 결정하고,상기 최대 깊이는 상기 제1 파장 및 상기 제2 파장 간의 차이에 의해 미리 결정되는 상기 전자 시스템의 최대 깊이 측정 범위 이하인,전자 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 (주)구일엔지니어링 홀로그램핵심기술개발 사업 홀로그램 기반 비접촉 비파괴형 제품 내외부 변형/결함 검출 기술 개발