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레이저 빔을 생성하는 광원;상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하는 광 분리부;상기 제1 레이저 빔에 의해서 여기되며 테라헤르츠 전자기파를 방사하는 발생부;상기 제1 레이저 빔을 상기 발생부로 전달하는 제1 광 파이버;상기 발생부가 방사한 상기 테라헤르츠 전자기파를 피검사체로 반사시키는 제1 반사부;상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 반사시키는 제2 반사부;상기 제2 반사부에 의해서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파 및 상기 제2 레이저 빔을 기초로 전기적 신호를 생성하는 검출부;상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 전달하는 제2 광 파이버;제3 레이저 빔을 생성하여 전송하는 제3 레이저 빔 전송부 및 상기 제3 레이저 빔을 수신하는 제3 레이저 빔 검출부를 포함하는 제1 정렬부; 및상기 제3 레이저 빔을 역반사하는 제2 정렬부;를 포함하고,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 각각은 상기 제3 레이저 빔을 진행시키는 적어도 한 쌍의 관통공을 구비하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제1항에 있어서,상기 광 분리부로부터 전달되는 상기 제1 레이저 빔을 상기 제1 광 파이버에 입사시키는 제1 광 파이버 결합부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제1항에 있어서,상기 광 분리부로부터 전달되는 상기 제2 레이저 빔을 상기 제2 광 파이버에 입사시키는 제2 광 파이버 결합부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 레이저 빔을 반사하여 상기 제1 광 파이버 결합부로 입사시키는 제1 미러;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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5
제3항에 있어서,상기 제2 레이저 빔을 반사하는 제2 미러; 및역반사체(retroreflector)를 구비하며, 상기 제2 레이저 빔을 반사하여 상기 제2 광 파이버 결합부로 입사시키는 광 지연부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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6
제1항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 적어도 하나 설치되며, 상기 테라헤르츠 전자기파 중 소정 대역만을 통과시키는 지문 필터부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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7
제1항에 있어서,상기 제1 반사부의 반사면은 상기 제2 반사부의 반사면에 대향하도록 설치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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8
제7항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 설치되며, 상기 피검사체가 상기 제1 반사부의 반사면과 상기 제2 반사부의 반사면의 사이에 위치하도록 상기 피검사체를 일정 방향으로 이동시키는 컨베이어;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 제1 정렬부는 상기 제1 반사부의 단부에 배치되고, 상기 제2 정렬부는 상기 제2 반사부의 단부에 배치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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11
제10항에 있어서,상기 제1 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것이고,상기 제2 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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12
제1항에 있어서,상기 제1 정렬부는 상기 제2 반사부의 단부에 배치되고, 상기 제2 정렬부는 상기 제1 반사부의 단부에 배치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제12항에 있어서,상기 제2 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것이고,상기 제1 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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14
제1항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 적어도 하나 설치되며, 상기 테라헤르츠 전자기파를 집속하는 집속부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제1항에 있어서,상기 검출부가 생성한 전기적 신호 및 기준 신호를 비교하여 상기 피검사체의 성분을 분석하는 제어부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제1 레이저 빔에 의해서 여기되며 테라헤르츠 전자기파를 방사하는 발생부;상기 발생부가 방사한 상기 테라헤르츠 전자기파를 피검사체로 반사시키는 제1 반사부;상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 반사시키는 제2 반사부;상기 제2 반사부에 의해서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파 및 제2 레이저 빔을 기초로 전기적 신호를 생성하는 검출부;제3 레이저 빔을 생성하여 전송하는 제3 레이저 빔 전송부 및 상기 제3 레이저 빔을 수신하는 제3 레이저 빔 검출부를 포함하는 제1 정렬부; 및상기 제3 레이저 빔을 역반사하는 제2 정렬부;를 포함하고,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 각각은 상기 제3 레이저 빔을 진행시키는 한 쌍의 관통공을 구비하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 제1 정렬부는 상기 제1 반사부의 단부에 배치되고, 상기 제2 정렬부는 상기 제2 반사부의 단부에 배치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제17항에 있어서,상기 제1 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것이고,상기 제2 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 제1 정렬부는 상기 제2 반사부의 단부에 배치되고, 상기 제2 정렬부는 상기 제1 반사부의 단부에 배치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제19항에 있어서,상기 제2 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것이고,상기 제1 반사부의 상기 한 쌍의 관통공 중 하나는 상기 제3 레이저 빔 전송부에서 전송되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제2 정렬부로 진행하는 방향을 따라서 형성되고 상기 한 쌍의 관통공 중 다른 하나는 상기 제2 정렬부로부터 역반사되는 상기 제3 레이저 빔이 상기 제3 레이저 빔 검출부로 진행하는 방향을 따라서 형성되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,레이저 빔을 생성하는 광원; 및상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하는 광 분리부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제21항에 있어서,상기 제1 레이저 빔을 상기 발생부로 전달하는 제1 광 파이버; 및상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 전달하는 제2 광 파이버;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제22항에 있어서,상기 광 분리부로부터 전달되는 상기 제1 레이저 빔을 상기 제1 광 파이버에 입사시키는 제1 광 파이버 결합부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제22항에 있어서,상기 광 분리부로부터 전달되는 상기 제2 레이저 빔을 상기 제2 광 파이버에 입사시키는 제2 광 파이버 결합부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제23항에 있어서,상기 제1 레이저 빔을 반사하여 상기 제1 광 파이버 결합부로 입사시키는 제1 미러;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제24항에 있어서,상기 제2 레이저 빔을 반사하는 제2 미러; 및역반사체를 구비하며, 상기 제2 레이저 빔을 반사하여 상기 제2 광 파이버 결합부로 입사시키는 광 지연부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 적어도 하나 설치되며, 상기 테라헤르츠 전자기파 중 소정 대역만을 통과시키는 지문 필터부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 제1 반사부의 반사면은 상기 제2 반사부의 반사면에 대향하도록 설치되는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제28항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 설치되며, 상기 피검사체가 상기 제1 반사부의 반사면과 상기 제2 반사부의 반사면의 사이에 위치하도록 상기 피검사체를 일정 방향으로 이동시키는 컨베이어;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 제1 반사부 및 상기 제2 반사부 사이에 적어도 하나 설치되며, 상기 테라헤르츠 전자기파를 집속하는 집속부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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제16항에 있어서,상기 검출부가 생성한 전기적 신호 및 기준 신호를 비교하여 상기 피검사체의 성분을 분석하는 제어부;를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 성분 분석 장치
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