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레이저 빔이 조사되면 테라헤르츠파를 생성하는 유전체 기판;상기 유전체 기판의 표면에 구비된 제1 금속 링 패턴 및 제2 금속 링 패턴;상기 제1 금속 링 패턴의 내측의 상기 유전체 기판의 표면에 구비되며, 테라헤르츠파가 조사되는 기준 시료가 주입되는 홈을 포함하는 기준 시료 저류부; 및상기 제2 금속 링 패턴의 내측의 상기 유전체 기판의 표면에 구비되며, 테라헤르츠파가 조사되는 분석 대상 시료가 주입되는 홈을 포함하는 분석 대상 시료 저류부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 센서 칩
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제1항에 있어서,상기 제1 금속 링 패턴 및 제2 금속 링 패턴은 동일한 형상인 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 센서 칩
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레이저 빔이 조사되면 테라헤르츠파를 생성하는 유전체 기판; 상기 유전체 기판의 표면에 구비된 제1 금속 링 패턴 및 제2 금속 링 패턴; 상기 제1 금속 링 패턴의 내측의 상기 유전체 기판의 표면에 구비되며, 기준 시료가 주입되는 홈을 포함하는 기준 시료 저류부; 및 상기 제2 금속 링 패턴의 내측의 상기 유전체 기판의 표면에 구비되며, 분석 대상 시료가 주입되는 홈을 포함하는 분석 대상 시료 저류부를 포함하는 테라헤르츠 센서 칩;테라헤르츠파를 여기하는 레이저 빔을 생성하는 레이저 빔 생성부;상기 레이저 빔 생성부가 생성한 상기 레이저 빔을 상기 기준 시료 저류부의 홈에 조사되는 제1 레이저 빔과 상기 분석 대상 시료 저류부의 홈에 조사되는 제2 레이저 빔으로 분할하고, 상기 제1 레이저 빔 상기 제2 레이저 빔을 상기 기준 시료 저류부의 홈에 주입된 기준 시료 및 상기 분석 대상 시료 저류부의 홈에 주입된 분석 대상 시료에 각각 조사하여 제1 테라헤르츠파 및 제2 테라헤르츠파를 각각 여기시키는 광학 시스템;상기 기준 시료 저류부의 홈에 주입된 기준 시료를 투과한 상기 제1 테라헤르츠파로부터 기준 시료 신호를 생성하고, 상기 분석 대상 시료 저류부의 홈에 주입된 분석 대상 시료를 투과한 상기 제2 테라헤르츠파로부터 분석 시료 신호를 생성하는 검출부; 및상기 레이저 빔 생성부 및 상기 광학 시스템을 제어하고, 상기 기준 시료 신호와 상기 분석 시료 신호를 비교하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 시료 분석 장치
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제4항에 있어서,상기 레이저 빔은 IR 레이저 빔을 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 시료 분석 장치
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제4항에 있어서,상기 광학 시스템은 상기 레이저 빔 생성부가 생성한 상기 레이저 빔을 소정의 방향으로 조향하는 갈바노미터 스캐너를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 시료 분석 장치
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