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공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 일측에 형성되며 코팅부품이 탑재되는 코팅부품 홀더와, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리를 위해 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서,상기 코팅부품의 플라즈마 처리 공정 영역에 대해 수직 방향으로 상기 공정 챔버 하측부에 형성되는 배기부를 포함하며,상기 공정 챔버 일측에 형성되며, 상기 공정 챔버 내부에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 측정하는 제1 오염입자 측정부;상기 공정 챔버 타측에 형성되며, 상기 공정 영역의 플라즈마 상태를 진단하는 플라즈마 진단부;상기 배기부에 형성되며, 상기 배기부를 통과하는 오염입자에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 실시간으로 측정하는 제2 오염입자 측정부;를 포함하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 제1 오염입자 측정부는,상기 공정 영역에 레이저를 조사하는 레이저모듈;상기 레이저모듈 전방에 위치하며 레이저광을 조절하는 레이저조절부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 2항에 있어서, 상기 공정 챔버 일측에 형성된 윈도우를 통해 측정되며, 상기 제1 오염입자 측정부에서 측정된 오염입자의 광산란 이미지를 측정하는 이미지 센서가 더 구비된 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 2항에 있어서, 상기 레이저모듈의 대향되는 위치에 레이저광 덤프(dump)가 형성된 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 진단부는,상기 공정 영역의 플라즈마를 진단하는 플라즈마 진단 프로브;상기 공정 챔버 외측부에 위치하며, 상기 플라즈마 진단 프로브를 유동시키는 유동형 프로브 조절부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제5항에 있어서, 상기 유동형 프로브 조절부는,물리적 조절에 의해 상기 플라즈마 진단 프로브의 위치를 조절하는 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 코팅부품 홀더는,유동형 홀더 조절부에 의해 코팅부품의 위치를 조절하는 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 7항에 있어서, 상기 유동형 홀더 조절부는,물리적 조절에 의해 구현되는 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 공정 챔버는 둘레를 따라 복수개의 가스 유입부가 형성된 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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제 10항에 있어서, 상기 가스 유입부는,상기 공정 챔버 상측에 더 조밀하게 형성된 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치
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