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피사체를 이미징하기 위한 초기 패턴을 생성하는 초기 패턴 생성부;모사하고자 하는 환경에 의한 광 손실을 반영하여 상기 초기 패턴의 밝기를 조절하여 손실 패턴을 생성하는 손실 패턴 생성부;복수의 픽셀 각각에 대한 임의의 빛의 세기를 가지는 잡음 패턴을 생성하는 잡음 패턴 생성부;상기 손실 패턴과 상기 잡음 패턴을 합하여 공간 광 변조기 패턴을 생성하는 공간 광 변조기 패턴 생성부;상기 공간 광 변조기 패턴에 따라 상기 복수의 픽셀의 투과량을 조절하여 광원에서 생성된 빛에 상기 공간 광 변조기 패턴을 부호화시켜 상기 피사체로 보내는 공간 광 변조기; 및상기 공간 광 변조기 패턴과 상기 피사체에 의해 반사된 빛의 세기를 전달받아 상기 피사체의 이미지를 획득하는 이미지 계산부를 포함하는 계산 고스트 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 피사체에 의해 반사된 빛의 세기를 측정하고 위치 정보를 측정하지 않는 단일 픽셀 광량 검출기를 더 포함하는 계산 고스트 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 초기 패턴은 픽셀의 온에 해당하는 최고 휘도 부분과 픽셀의 오프에 해당하는 최저 휘도 부분으로 이루어진 패턴이고,상기 손실 패턴 생성부는 상기 최고 휘도 부분의 휘도를 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치
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제3 항에 있어서,상기 손실 패턴 생성부는 상기 최고 휘도 부분의 휘도를 모두 동일하게 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치
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제3 항에 있어서,상기 손실 패턴 생성부는 상기 최고 휘도 부분의 휘도를 픽셀별로 선택적으로 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 잡음 패턴은 광자 수의 확률 분포가 보즈-아인슈타인 분포를 따르는 열적 잡음 또는 광자 수의 확률 분포가 가우시안 분포를 따르는 백색 잡음 중 적어도 하나를 나타내는 계산 고스트 이미징 장치
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제6 항에 있어서,상기 잡음 패턴 생성부는 광자 수의 확률 분포와 난수 발생기를 이용하여 상기 복수의 픽셀 각각에 대한 빛의 세기를 생성하여 상기 잡음 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치
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피사체를 이미징하기 위한 초기 패턴을 생성하는 단계;모사하고자 하는 환경에 의한 광 손실을 반영하여 상기 초기 패턴의 밝기를 조절하여 손실 패턴을 생성하는 단계;복수의 픽셀 각각에 대한 임의의 빛의 세기를 가지는 잡음 패턴을 생성하는 단계;상기 손실 패턴과 상기 잡음 패턴을 합하여 공간 광 변조기 패턴을 생성하는 단계;상기 공간 광 변조기 패턴에 따라 상기 복수의 픽셀의 투과량을 조절하여 광원에서 생성된 빛에 상기 공간 광 변조기 패턴을 부호화시켜 상기 피사체로 보내는 단계; 및상기 공간 광 변조기 패턴과 상기 피사체에 의해 반사된 빛의 세기를 전달받아 상기 피사체의 이미지를 획득하는 단계를 포함하는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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제8 항에 있어서,상기 초기 패턴의 밝기를 조절하여 손실 패턴을 생성하는 단계는,상기 초기 패턴에서 픽셀의 온에 해당하는 최고 휘도 부분의 휘도를 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 단계를 포함하는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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제9 항에 있어서,상기 최고 휘도 부분의 휘도를 모두 동일하게 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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제9 항에 있어서,상기 최고 휘도 부분의 휘도를 픽셀별로 선택적으로 낮추어 상기 손실 패턴을 생성하는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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제8 항에 있어서,상기 잡음 패턴은 광자 수의 확률 분포가 보즈-아인슈타인 분포를 따르는 열적 잡음 또는 광자 수의 확률 분포가 가우시안 분포를 따르는 백색 잡음 중 적어도 하나를 나타내는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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제12 항에 있어서,상기 잡음 패턴을 생성하는 단계는,광자 수의 확률 분포와 난수 발생기를 이용하여 상기 복수의 픽셀 각각에 대한 빛의 세기를 생성하여 상기 잡음 패턴을 생성하는 단계를 포함하는 계산 고스트 이미징 장치를 이용한 환경 모사 방법
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