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투명기판;상기 투명기판 상부에 형성된 제1전극;상기 제1전극 상부에 형성되며, 자외선을 흡수하는 할라이드 페로브스카이트층;상기 할라이드 페로브스카이트층 상부에 형성된 정공수송층; 및 상기 정공수송층 상부에 형성되는 제2전극;을 포함하는 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 투명기판은 자외선을 투과시키고, 석영(Quartz), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 및 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 제1전극은 자외선을 투과시키고, ITO, FTO 및 ZnO 중 1 종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 할라이드 페로브스카이트층은 100nm 내지 280nm 파장 영역의 자외선을 흡수하는 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 제1전극은 패터닝된 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 할라이드 페로브스카이트층은 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 할라이드 페로브스카이트층은 두께가 100nm 이상인 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기
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제1항에 있어서, 상기 고감도 광검출기는 254nm 파장을 가지는 자외선 조사에 대해 2
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(a) 투명기판에 전극형성 물질을 패터닝하여 제1전극을 형성하는 단계;(b) 상기 제1전극이 형성된 투명기판 상부에 전구체 용액으로 코팅하고, 상부에 유기 할라이드 용액을 코팅하는 단계; (c) 코팅된 투명기판을 어닐링하여 할라이드 페로브스카이트층을 형성하는 단계;(d) 상기 할라이드 페로브스카이트층에 정공수송층 전구체 용액을 코팅하여 정공수송층을 형성하는 단계; 및(e) 상기 정공수송층 일단에 제2전극을 형성하는 단계를 포함하는 고감도 광검출기 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 유기 할라이드 용액은 FAI: MABr : MACl이 100 : 5 ~10 : 5 ~ 10의 중량비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 고감도 광검출기 제조방법
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