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베이스기판;상기 베이스기판 상에 형성된 복수의 금속함유 나노구조체;상기 금속함유 나노구조체 상에 형성된 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크(bicontinous network) 복합박막;을 포함하는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 복수의 금속함유 나노구조체는 상기 베이스기판 상에 이격되어 형성된 복수의 나노필라 및 나노돌기 중 1종 이상; 및상기 복수의 나노필라 및 나노돌기 중 1종 이상의 표면상에 형성된 금속함유 박막;을 포함하고,상기 금속함유 박막은 Au, 또는 이의 합금으로 구성되는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 플라즈모닉 나노구조는 금속함유 나노입자인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 분자량 400 g/mol 이상인 분자를 필터링할 수 있는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 타겟분자를 더 포함하는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제5항에 있어서,상기 타겟분자는 공유결합 또는 정전기적 인력에 의해 결합되는 유기분자인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 하이드로젤은 평균 기공의 크기가 5 nm 이하인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 2중 연속 네트워크 복합박막의 두께는 1 nm 내지 100 nm인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 2중 연속 네트워크 복합박막은 용액공정으로 형성된 것인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항에 있어서,상기 2중 연속 네트워크 복합박막은 전기화학증착으로 형성된 것인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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11
제1항에 있어서,상기 2중 연속 네트워크 복합박막은 다공성인, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체가 형성된 베이스기판;상기 베이스기판 및 전해액을 수용하는 전기화학 셀;상기 전기화학 셀에 구비되는 기준전극 및 카운터전극;작용전극인 금속함유 나노구조체와 카운터전극에 사이에 전압을 인가하는 전원; 상기 베이스기판에 광을 조사하는 광원; 및라만분광 신호를 검출하는 검출기;를 포함하는, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서,작용전극인 금속함유 나노구조체는 Au 나노필라인, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서, 전압 인가 시, 상기 베이스기판에 형성된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막을 형성하며, 상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 상기 베이스기판에 형성된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조의 전기화학증착으로 형성된 것인, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서, 상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 분자량 400 g/mol 이상인 분자를 필터링할 수 있는, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서전기화학증착에 의한 상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막 형성과 동시에 라만 분석이 가능한, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서, 전압 인가 시, 상기 베이스기판에 형성된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤-타겟분자로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막을 형성하며, 상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 상기 베이스기판에 형성된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조의 전기화학증착; 및타겟분자의 화학결합 또는 정전기적 인력;에 의해 형성된 것인, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제17항에 있어서,상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤-타겟분자로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막은 전구체 HAuCl4의 전기화학증착; 및 Au와 타겟분자의 화학결합 또는 정전기적 인력;에 의해 형성된 것인, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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19
제17항에 있어서전기화학증착에 의한 상기 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤-타겟분자로 구성되는 2중 연속 네트워크 복합박막 형성과 동시에 라만 분석이 가능한, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서,1 분 이내에 복합 시료 내의 타겟분자의 라만 분석이 가능한, 전기화학증착-라만 분석 융합시스템
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제12항에 있어서,-0
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제12항에 있어서,0
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i) 전기화학 셀에 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체가 형성된 베이스기판을 준비하는 단계; ii) 상기 전기화학 셀에 플라즈모닉 나노구조의 전구체를 포함하는 전해액을 준비하는 단계; 및iii) 전극에 전압을 인가하여 상기 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤로 구성된 2중 연속 네트워크 복합박막을 형성하는 단계;를 포함하는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판의 제조 방법
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제23항에 있어서,단계 ii)에서 상기 전해액은 HAuCl4 및 타겟분자를 포함하는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판의 제조 방법
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제24항에 있어서,단계 iii)에서 전극에 전압을 인가하여 상기 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤-타겟분자로 구성된 2중 연속 네트워크 복합박막을 형성하는, 3차원 플라즈모닉-하이드로젤 복합박막을 포함하는 기판의 제조 방법
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제23항에 있어서,단계 iii)에서 인가되는 전압은 -0
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i) 전기화학 증착 시스템의 전기화학 셀에 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 하이드로젤이 코팅된 금속함유 나노구조체가 형성된 베이스기판을 준비하는 단계; ii) 상기 전기화학 셀에 플라즈모닉 나노구조의 전구체 및 타겟분자를 포함하는 전해액을 준비하는 단계; iii) 전극에 전압을 인가하여 상기 금속함유 나노구조체 상에 플라즈모닉 나노구조-하이드로젤-타겟분자로 구성된 2중 연속 네트워크 복합박막을 형성하는 단계; 및iv) 상기 2중 연속 네트워크 복합박막이 형성된 베이스기판에 광원을 조사하여 라만 분석을 하는 단계;를 포함하는, 실시간 라만 분석 방법
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