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입사되는 광 중 기 설정된 파장대역만을 투과시키는 파장 가변형 에탈론 필터에 있어서,한 쌍의 기판;양 기판 사이에 주입되는 액정;각 기판 사이에 형성되어 상기 기판 또는 고 반사층 간 간격을 유지하며, 상기 액정이 유입될 수 있는 주 주입구를 갖는 주입공간 및 액정이 유출될 수 있는 부 주입구를 가지며, 광이 입사되거나 통과되는 영역(L)을 중심으로 하여 기 설정된 형상을 갖도록 구현된 주 수용공간을 포함하는 내부 씰라인;각 기판 사이에 형성되며, 기 설정된 형상을 가지며, 상기 내부 씰라인의 외곽에 위치하여 상기 내부 실라인의 외곽에 부 수용공간을 형성하는 외부 씰라인; 및봉지되어 상기 액정의 배출을 방지하는 봉지재를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제1항에 있어서,각 기판이 서로 마주보는 방향으로 위치하여, 자신을 향해 입사하는 광을 반사시키는 한 쌍의 고반사층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제2항에 있어서,상기 고반사층은,입사되는 광을 자신의 사이에서 다중반사시키며 간섭을 유도하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제1항에 있어서,상기 봉지재는,상기 주 주입구로 주입되어 경화됨으로서, 상기 주 주입구를 봉지시키는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제1항에 있어서,상기 부 주입구는,상기 주 주입구로부터 가장 먼 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제1항에 있어서,상기 부 주입구는,복수 개로 구현될 수 있는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제6항에 있어서,상기 부 주입구는,상기 주 주입구로부터 가장 먼 위치를 기준으로 기 설정된 거리 내에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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8
제1항에 있어서,상기 외부 씰라인은,일 부분이 개방된 기 설정된 형상을 가지며, 개방된 부분이 상기 주입 공간의 일 위치에 각각 접촉하여 폐쇄된 공간을 형성하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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9
제1항에 있어서,각 기판이 서로 마주보는 방향으로 위치하여, 외부로부터 전원을 인가받아 전기장을 형성하는 한 쌍의 투명전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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10
제1항에 있어서,각 기판이 서로 마주보는 방향으로 위치하여, 상기 액정을 배향시키는 한 쌍의 배향막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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11
기 설정된 파장대역의 광을 조사하는 광원에 있어서,외부로부터 전원을 공급받아 광을 출력하며, 자신을 거치는 광을 증폭시키는 이득매질;상기 이득매질로부터 광이 출력되는 방향으로 상기 이득매질의 전방에 위치하여 입사되는 광 중 기 설정된 파장대역의 광만을 투과시키는, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 파장 가변형 에탈론 필터; 및상기 이득매질과 상기 파장 가변형 에탈론 필터를 사이에 두고 서로 마주보도록 배치되어, 상기 이득매질에서 조사된 광을 반사시키는 한 쌍의 미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 광원
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제11항에 있어서,상기 한 쌍의 미러 중 어느 하나는 상대적으로 반사도가 낮은 것을 특징으로 하는 광원
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제11항에 있어서,상기 파장 가변형 에탈론 필터는,외부로부터 전원을 인가받아 굴절률을 조정함으로서, 투과시킬 광의 파장대역을 조정하는 것을 특징으로 하는 광원
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제11항에 있어서,광 경로 상에서 상기 이득매질 및 상기 파장 가변형 에탈론 필터 사이에 배치되는 고정형 에탈론 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광원
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제14항에 있어서,상기 고정형 에탈론 필터는,FSR(Free Spectral Range) 간격마다 이산적(Discrete)으로 광을 투과시키는 것을 특징으로 하는 광원
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16
제11항의 광원 및 상기 광원의 동작을 제어하는 드라이버를 포함하는 송신부; 및외부에서 출력된 광 중 기 설정된 파장대역의 광만을 수신하는 수신부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 트랜시버
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17
입사되는 광 중 기 설정된 파장대역만을 투과시키는 파장 가변형 에탈론 필터에 있어서,한 쌍의 기판;양 기판 사이에 주입되는 액정;각 기판 사이에 형성되어 상기 기판 또는 고 반사층 간 간격을 유지하며, 상기 액정이 유입될 수 있는 주 주입구를 갖는 주입공간 및 액정이 유출될 수 있는 부 주입구를 가지며, 광이 입사되거나 통과되는 영역(L)을 중심으로 하여 기 설정된 형상을 갖도록 구현된 주 수용공간을 포함하는 내부 씰라인;각 기판 사이에 형성되며, 기 설정된 형상을 가지며, 상기 내부 씰라인의 외곽에 위치하여 상기 내부 실라인의 외곽에 부 수용공간을 형성하는 외부 씰라인; 및봉지되어 상기 액정의 배출을 방지하는 봉지재를 포함하며,상기 부 수용공간은 기 설정된 위치에 자신에 인접한 영역보다 상대적으로 넓은 폭을 갖는 무액정실을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제17항에 있어서,상기 무액정실은,상기 기판, 상기 고 반사층 및 투명전극 중 일부 또는 전부가 식각되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제18항에 있어서,상기 무액정실은,각 기판이 서로 마주보는 방향이 이루는 축 상으로 상기 고 반사층이 기 설정된 깊이만큼 식각되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제18항에 있어서,상기 무액정실은,각 기판이 서로 마주보는 방향이 이루는 축 상으로 상기 기판이 기 설정된 깊이만큼 식각되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제18항에 있어서,상기 무액정실은,각 기판이 서로 마주보는 방향이 이루는 축 상으로 상기 투명전극이 기 설정된 깊이만큼 식각되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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22
입사되는 광 중 기 설정된 파장대역만을 투과시키는 파장 가변형 에탈론 필터에 있어서,한 쌍의 기판;양 기판 사이에 주입되는 액정;각 기판 사이에 형성되어 상기 기판 또는 고 반사층 간 간격을 유지하며, 상기 액정이 유입될 수 있는 주 주입구를 갖는 주입공간 및 액정이 유출될 수 있는 부 주입구를 가지며, 광이 입사되거나 통과되는 영역(L)을 중심으로 하여 기 설정된 형상을 갖도록 구현된 주 수용공간을 포함하는 내부 씰라인;각 기판 사이에 형성되며, 기 설정된 형상을 가지며, 상기 내부 씰라인의 외곽에 위치하여 상기 내부 실라인의 외곽에 부 수용공간을 형성하는 외부 씰라인; 상기 외부 씰라인의, 상기 주 주입구를 기준으로 기 설정된 반경 내 일 지점으로부터 상기 외부 씰라인의 외부로 돌출된 추가 씰라인; 및봉지되어 상기 액정의 배출을 방지하는 봉지재를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제22항에 있어서,상기 추가 씰라인은,주입되는 봉지재의 확산을 방지하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제23항에 있어서,상기 봉지재는 봉지를 위해 주입되는 경우, 상기 주 주입구 및 상기 추가 씰라인이 형성하는 공간 내에서 위치하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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25
입사되는 광 중 기 설정된 파장대역만을 투과시키는 파장 가변형 에탈론 필터에 있어서,한 쌍의 기판;일 기판 상으로 적하(Drop)되며 양 기판 사이에 배치되는 액정;액정이 유출될 수 있는 부 주입구를 가지며, 광이 입사되거나 통과되는 영역(L)을 중심으로 하여 기 설정된 형상을 갖도록 구현된 주 수용공간을 포함하는 내부 씰라인; 및기 설정된 형상을 가지며, 상기 내부 씰라인의 외곽에 위치하여 상기 내부 실라인의 외곽에 부 수용공간을 형성하는 외부 씰라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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26
제25항에 있어서,상기 내부 씰라인은,하나 이상의 부 주입구를 갖는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제25항에 있어서,상기 외부 씰라인은,사각형상을 갖는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제27항에 있어서,상기 외부 씰라인은,닫힌 경로를 형성하여 적하된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제25항에 있어서,상기 내부 씰라인의 부 주입구로부터 가장 먼 위치에서 상기 외부 씰라인까지 돌출된 격벽을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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제29항에 있어서,상기 격벽은,상기 부 수용공간 내에서 액정의 유동을 방지하는 것을 특징으로 하는 파장 가변형 에탈론 필터
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