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마이크로 사이즈의 기공의 내벽에 나노 사이즈의 기공이 형성된 계층적 기공 구조를 보유하고,8 내지 13 ㎛ 범위의 원-적외전(LW-IR) 파장 영역에서 방사도가 0
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제1항에 있어서,상기 마이크로 사이즈의 기공은 크기가 2 내지 30 ㎛이고, 상기 나노 사이즈의 기공은 크기가 20 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는, 무전원냉각용 다공성 고분자
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제1항 또는 제2항에 있어서,기공률이 70 내지 85%인 것을 특징으로 하는, 무전원냉각용 다공성 고분자
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제1항 또는 제2항에 있어서,고분자 및 사슬연장제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 무전원냉각용 다공성 고분자
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제4항에 있어서,상기 고분자는 폴리락티드산(PLA)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 무전원냉각용 다공성 고분자
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제4항에 있어서,상기 사슬연장제는 2가 알코올이나 아민류, 또는 에폭사이드 그룹을 포함하는 아크릴계 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 무전원냉각용 다공성 고분자
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제4항에 있어서,상기 고분자와 상기 사슬연장제의 질량비는 100:0
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제1항 또는 제2항에 있어서,8 내지 13 ㎛ 범위의 파장에서 반사도가 0
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고분자와 사슬연장제를 혼합하는 단계; 및상분리 공정을 이용해 고분자 기지 내에 기공을 형성하는 단계를 포함하는, 제1항 또는 제2항의 무전원냉각용 다공성 고분자의 제조방법
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제9항에 있어서,기공이 형성된 고분자에 대해 용매교환을 수행하는 단계를 추가로 포함하는, 제1항 또는 제2항의 무전원냉각용 다공성 고분자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 고분자와 사슬연장제를 혼합하는 단계는 상기 고분자와 상기 사슬연장제를 용매로서 테트라히드로퓨란(THF)과 비용매로서 증류수(water)을 이용해 혼합한 후, -1 내지 -20 ℃의 온도범위에서 급냉하여 겔형태로 만드는 것을 특징으로 하는, 제1항 또는 제2항의 무전원냉각용 다공성 고분자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 용매교환을 수행하는 단계는 에탄올을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는, 제1항 또는 제2항의 무전원냉각용 다공성 고분자의 제조방법
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