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1 이상의 타공부가 형성된 부도체 필름; 및상기 타공부에 형성된 메쉬부를 포함하는 겔 지지체
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제1항에 있어서, 상기 겔 지지체는 전기영동 및 전기전사(electrotransfer)에 적용되는 것인 겔 지지체
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제2항에 있어서, 상기 겔 지지체는, 상기 겔 지지체의 상면 또는 하면에 결합되는 겔 층이 형성되고, 상기 1 이상의 타공부에 결합된 겔을 통해 시료의 전기영동을 수행하여 시료를 분리하며, 상기 1 이상의 타공부에 존재하는 분리된 시료를 블롯팅 멤브레인으로 전기전사(electrotransfer)하는 것인 겔 지지체
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제1항에 있어서, 상기 겔 지지체는 공유결합을 통해 겔과 결합하는 것인 겔 지지체
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제1항에 있어서, 상기 겔 지지체의 두께는 400 μm 이하인 겔 지지체
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제1항에 있어서, 상기 메쉬부의 평균 기공의 크기는 10 내지 300μm인 겔 지지체,
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제1항에 있어서, 상기 메쉬부는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드 및 폴리에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 소재로 형성된 것인 겔 지지체
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8
제1항에 있어서, 상기 부도체 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드 및 폴리에스테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 소재로 형성된 것인 겔 지지체
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9
(a) 부도체 필름에 1 이상의 타공부를 형성하는 단계; 및 (b) 상기 1 이상의 타공부에 메쉬부를 형성하는 단계를 포함하는 겔 지지체의 제조방법
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10
제9항에 있어서, 상기 (b) 단계 이후, (c) 상기 메쉬부가 형성된 부도체 필름을 겔과 공유결합 가능한 작용기로 표면개질하는 단계를 더 포함하는 겔 지지체의 제조방법
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