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3차원 그물 구조를 포함하는 다공성 광가교 고분자 매트릭스;니트릴계 화합물 및 에테르계 화합물 중 하나 이상을 포함하는 유기 용매 와 이온성 염을 포함하는 유기 전해질; LATP계 제1 무기 전해질; 및 LSTP계 제2 무기 전해질;을 포함하고,상기 제1 무기 전해질의 중량과, 상기 제2 무기 전해질의 중량의 비(제1 무기 전해질의 중량 : 제2 무기 전해질의 중량)는, 1 : 9 내지 9 : 1 인 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 유기 전해질, 상기 제1 무기 전해질 및 상기 제2 무기 전해질은 상기 광가교 고분자 매트릭스 내 기공에 위치하는 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 다공성 광가교 고분자 매트릭스는,폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트(poly(ethylene glycol) diacrylate), 폴리트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트(poly(triethylene glycol) diacrylate), 폴리트리메틸올프로판에톡시레이트 트리아크릴레이트(poly trimethylolpropane ethoxylated triacrylate), 폴리비스페놀에이에톡시레이트 디메타아크릴레이트(poly bisphenol A ethoxylated dimethacrylate), 폴리아크릴릭 엑시드(poly(acrylic acid)), 폴리카르복시에틸 아크릴레이트(poly(carboxy ethyl)acrylate), 폴리메틸 시아노아크릴레이트(poly(methyl cyano) acrylate), 폴리에틸 시아노아크릴레이트(poly(ethyl cyano) acrylate), 폴리에틸 시아노 에톡시아크릴레이트(poly (ethyl cyano ethoxy) acrylate), 폴리시아노 아크릴릭엑시드(poly(cyanoacrylic acid)), 폴리하이드록시에틸 메타크릴레이트(poly(hydroxyl ethyl methacrylate)) 및 폴리하이드록시프로필 아크릴레이트(poly(hydroxyl propyl acrylate))로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 다공성 광가교 고분자 매트릭스는,상기 3차원 그물 구조 내에, 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리비닐리덴 플루오라이드 코-헥사플루오로프로필렌(polyvinylidene fluoride co-hexafluoropropylene), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethylmethacrylate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리비닐아세테이트(polyvinylacetate), 폴리아크릴로나이트릴(polyacrylonitrile) 및 폴리에틸렌옥사이드(polyethylene oxide)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 선형 고분자 또는 이들의 유도체를 더 포함하는 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 니트릴계 화합물은,석시노니트릴(Succinonitrile), 아디포니트릴(Adiponitrile), 세바코니트릴(Sebaconitrile), 아세토니트릴(Acetonitrile) 및 프로피오니트릴(Propionitrile)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것이고,상기 에테르계 화합물은,디부틸 에테르(Dibutyl Ether), 테트라글라임(Tetra Glyme), 디글라임(Diglyme), 디메톡시에탄(Dimethoxyethane), 2-메틸테트라히드로퓨란(2-methylhydrofuran) 및 테트라히드로퓨란(Tetrahydrofuran)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 이온성 염은, 리튬 비스(트리플루오로메탄)설포닐이미드(Lithium Bis(trifluoromethan)sulfonimide, LiTFSI), 리튬 비스(퍼플루오로에틸)설포닐이미드(Lithium Bis(perfluoroethyl) sulfonimide) 및 리튬 테트라플루오로보레이트(Lithium tetrafluoroborate)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 리튬염을 포함하는 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 제1 무기 전해질은 LiO2-Al2O3-TiO2-P2O5이고, 상기 제2 무기 전해질은, LiO2-SiO2-TiO2-P2O 인 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서, 상기 제1 무기 전해질 및 제2 무기 전해질의 평균 입도는, 각각, 0
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9
제1항에 있어서, 상기 유기 전해질의 중량과, 상기 제1 무기 전해질의 중량 및 상기 제2 무기 전해질의 중량의 합의 비(유기 전해질의 중량 : 제1 무기 전해질의 중량 + 제2 무기 전해질의 중량)는, 4 : 6 내지 9 : 1 인 것인,복합 전해질
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삭제
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제1항에 있어서,상기 복합 전해질 100 중량부 기준으로, 상기 제1 무기 전해질 및 상기 제2 무기 전해질은, 각각, 5 중량부 내지 20 중량부인 것인,복합 전해질
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제1항에 있어서,상기 유기 전해질의 중량과, 상기 다공성 광가교 고분자 매트릭스의 중량의 비(유기 전해질의 중량 : 고분자 매트릭스의 중량)는,2
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제1항에 있어서,상기 유기 전해질의 비점(Boiling point)은 200℃ 이상인 것이고,상기 복합 전해질의 100 ℃ 내지 150 ℃ 의 온도에서의 이온 전도도는, 2
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니트릴계 화합물, 에폭시계 화합물, 또는 이들의 조합을 포함하는 유기 용매 및 이온성 염을 혼합하여 유기 전해질을 수득하는 단계;상기 수득된 유기 전해질, 광가교성 단량체, 광가교 개시제, LATP계 제1 무기 전해질 및 LSTP계 제2 무기 전해질을 혼합하여 혼합물을 형성하는 단계; 및상기 혼합된 혼합물에 자외선(Ultraviolet rays, UV)을 조사하는 단계;를 포함하고,상기 제1 무기 전해질의 중량과, 상기 제2 무기 전해질의 중량의 비(제1 무기 전해질의 중량 : 제2 무기 전해질의 중량)는, 1 : 9 내지 9 : 1 인 것인,복합 전해질의 제조방법
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제14항에 있어서,상기 유기 전해질을 수득하는 단계는, 선형 고분자를 더 혼합하는 단계를 포함하는 것인,복합 전해질의 제조방법
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제14항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 단계는, 상기 광가교성 단량체를 광가교 하여 3차원 그물 구조를 포함하는 다공성 광가교 고분자 매트릭스를 형성하고,상기 무기 전해질, 및 상기 유기 전해질의 복합체를 상기 광가교 고분자 매트릭스 내 기공에 형성하는 것인,복합 전해질의 제조방법
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제14항에 있어서,상기 혼합물을 형성하는 단계 후에, 상기 유기 전해질 내 상기 제1 무기 전해질 및 상기 제2 무기 전해질을 비드 밀링(bead milling) 법으로 분산시키는 단계;를 더 포함하는 것인,복합 전해질의 제조 방법
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제14항에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계 전에,상기 혼합된 혼합물을 다공성 고분자 지지체에 캐스팅(cating)하는 단계;를 더 포함하는 것인,복합 전해질의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 유기 전해질의 중량과, 상기 제1 무기 전해질의 중량 및 상기 제2 무기 전해질의 중량의 합의 비(유기 전해질의 중량 : 제1 무기 전해질의 중량 + 제2 무기 전해질의 중량)는, 4 : 6 내지 9 : 1 인 것이고,상기 유기 전해질의 중량, 상기 광가교성 단량체의 중량 및 상기 광가교 개시제의 중량의 합과, 상기 무기 전해질의 중량의 비(유기 전해질의 중량 + 광가교성 단량체의 중량 + 광가교 개시제의 중량 : 무기 전해질의 중량)는, 0
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애노드 전극; 캐소드 전극; 및 제1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항의 복합 전해질;을 포함하는,이차 전지
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