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미세채널이 형성된 블록을 제조하기 위해 상기 미세채널에 대응되는 크랙을 형성하는 방법에 있어서,기판에 감광물질을 도포하고, 경화시켜 몰드블록을 형성하는 소프트 베이크(Soft bake) 단계; 상기 몰드블록 상에 상기 크랙을 진행시키기 위한 노치부와 대응되는 제1 노치패턴이 형성된 제1 포토마스크를 배치 후 빛을 조사하는 1차 노광 단계; 상기 1차 노광된 상기 몰드블록을 가열 건조시키는 1차 PEB(Post Exposure Bake) 단계; 상기 몰드블록을 1차 현상하여, 상기 몰드블록에 상기 크랙을 발생시키기 위한 노치부를 형성하는 단계;상기 몰드블록 상에 상기 크랙이 전파되는 영역과 대응되는 전파영역패턴이 형성된 제2 포토마스트를 배치 후, 빛을 조사하는 2차 노광 단계; 상기 2차 노광된 상기 몰드블록을 가열 건조시키는 2차 PEB(Post Exposure Bake) 단계;상기 몰드블록을 2차 현상하여, 상기 노치부로부터 상기 크랙이 발생 및 전파하며 형성되는 단계를 포함하며,상기 감광물질은 빛에 의해 경화되는 네거티브 감광물질이고,상기 1차 PEB 단계 또는 상기 2차 PEB 단계의 온도를 변화시켜 상기 크랙의 깊이, 폭 또는 상기 크랙의 깊이에 대한 폭의 종횡비(Aspect ratio)를 조절하되,상기 크랙의 폭과 깊이를 감소시키기 위해서는, 상기 1차 PEB 단계에서 상기 몰드블록으로 가해지는 온도를 증가시키며,상기 크랙의 깊이에 대한 폭의 종횡비를 증가시키기 위해서는, 상기 1차 PEB 단계에서 상기 몰드블록으로 가해지는 온도가 증가시키거나, 상기 2차 PEB 단계에서 상기 몰드블록으로 가해지는 온도를 감소시키는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 소프트 베이크 단계, 상기 1차 PEB 단계 및 상기 2차 PEB 단계에서 가해지는 온도는 75℃ 내지 125℃ 의 범위인 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 1차 노광 단계에서는,상기 빛이 상기 제1 노치패턴을 투과하여 상기 몰드블록으로 조사되는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 2차 노광 단계에서는,상기 빛이 상기 전파영역패턴을 제외한 나머지 부분으로 투과하여 상기 몰드블록에 조사되는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 네거티브 감광물질은 SU-8 폴리머를 포함하는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 크랙이 전파하는 속도는 상기 1차 노광 단계에서 조사되는 빛 에너지의 양으로 조절되는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 크랙이 전파되는 길이는 상기 1차 노광 단계에서 조사되는 빛 에너지의 양 또는 상기 크랙이 발생 및 전파하여 형성되는 단계에서 현상하는 시간으로 조절하는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 1에 있어서,상기 노치부는,횡단면이 원형인 홀과 상기 홀의 일측에 하나 이상 형성된 각형 구조인 노치를 포함하며,상기 크랙이 발생 및 전파하며 형성되는 단계에서는 상기 노치로부터 상기 크랙이 발생되는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 12에 있어서, 상기 노치는 삼각형 형상으로 형성되며,상기 크랙은 상기 노치의 일면과 상기 일면에 이웃하는 상기 노치의 타면이 이루는 각도가 90°이상 150°미만이면 하나 형성되는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 12에 있어서, 상기 노치는 삼각형 형상으로 형성되며,상기 크랙은,상기 노치의 일면과, 상기 일면에 이웃하는 상기 노치의 타면이 이루는 각도가 0°이상 90°미만이면 두 개 이상 형성되며, 상기 노치의 각도가 150°이상이면 형성되지 않는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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청구항 12에 있어서,상기 노치는 너비와 높이를 가지는 삼각형 형상으로 형성되며,상기 너비 길이와 상기 높이 길이의 사이의 상대비를 이용하여 상기 크랙의 발생 개수를 조절하는 미세채널 제조용 크랙 형성방법
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