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니켈 전구체로 도프된 면직물을 아르곤과 수소가스 분위기에서 탄화시킨, 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크; 및상기 그래핀 네트워크 상에 전착된 수산화니켈을 포함하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체
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청구항 1에 있어서,상기 니켈 나노입자는,평균 직경이 50 내지 150 nm인 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체
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청구항 1에 있어서,상기 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체는,평균 직경이 1 내지 30 nm인 기공을 포함하는 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체
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면직물을 니켈 전구체 수용액에 침지시킨 후 건조하여 니켈 전구체로 면직물을 도프하는 단계;상기 니켈 전구체로 도프된 면직물을 탄화시켜 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크를 합성하는 단계;상기 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크를 에칭시키는 단계; 및상기 에칭된 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크를 니켈 전구체 용액으로 전기증착시켜 수산화니켈(Ni(OH)2)을 전착시키는 단계;를 포함하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 면직물은,의료용 폼(medical foam) 또는 셀룰로오스계 면직물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 니켈 전구체는,염화니켈·6수화물(NiCl2·6H2O), 아세트산니켈·6수화물(NiCl2·6H2O) 및 질산니켈·6수화물(Ni(NO3)2·6H2O)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크를 합성하는 단계는,니켈 전구체로 도프된 면직물을 800 내지 1200℃에서 1 내지 3시간 동안 1 : (5 ~ 9)의 비율의 아르곤과 수소가스 분위기에서 탄화시키는 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 수산화니켈(Ni(OH)2)을 전착시키는 단계는,에칭된 니켈 나노입자가 코팅된 그래핀 네트워크를 80 내지 120 mM의 니켈 전구체 용액으로 20 내지 30℃에서 1 내지 10분 동안 -10 내지 5 mA의 전류조건에서 전기증착시키는 것을 특징으로 하는, 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 네트워크 전류집전체 제조방법
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