1 |
1
제1 수용 공간, 제1 수용액 및 상기 제1 수용액에 적어도 일부가 잠기는 캐소드를 포함하는 캐소드부;제2 수용 공간, 염기성인 제2 수용액 및 상기 제2 수용액에 적어도 일부가 잠기는 금속의 애노드를 포함하는 애노드부; 상기 캐소드부와 애노드부를 연결하는 연결부; 및금속 회수부;를 포함하고,상기 제1 수용액으로 유입된 이산화탄소를 중탄산이온으로 포집하고 수소이온을 생성하고, 상기 애노드는 자발적 산화반응을 통해 상기 캐소드로 전자를 공급하고, 상기 수소이온과 상기 캐소드의 전자가 반응하여 수소를 생산하고,상기 금속 회수부는 상기 애노드에서 산화된 금속 이온이 용해된 제2 수용액을 공급받는 공급부;상기 공급받은 제2 수용액을 수용하는 회수 공간; 상기 회수 공간에 수용된 제2 수용액에 적어도 일부가 잠기는 상기 애노드와 동일한 재질의 제2 캐소드;상기 회수 공간에 수용된 제2 수용액에 적어도 일부가 잠기는 제2 애노드; 및상기 제2 캐소드와 상기 제2 애노드에 전원을 공급하는 전원공급부;를 포함하며,상기 공급받은 제2 수용액으로부터 산화된 금속 이온을 회수하는 이산화탄소 활용 시스템
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 애노드의 재질은 알루미늄(Al), 아연(Zn) 또는 이들의 합금을 포함하는 이산화탄소 활용 시스템
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 연결부는 염다리인 이산화탄소 활용 시스템
|
4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 염다리의 내부 용액은 나트륨 이온을 포함하는 이산화탄소 활용 시스템
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 연결부는 제1 수용 공간과 상기 제2 수용 공간 사이에 설치되고, 상기 제1 수용액과 상기 제2 수용액의 이동은 차단하고 이온의 이동은 허용하는 다공성 구조의 이온 전달 부재인 이산화탄소 활용 시스템
|
6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 이온 전달 부재의 재질은 유리인 이산화탄소 활용 시스템
|
7 |
7
제 5 항에 있어서,상기 이온 전달 부재에 형성된 기공은 40 내지 90 미크론, 15 내지 40 미크론, 5 내지 15 미크론 또는 1 내지 2 미크론인 이산화탄소 활용 시스템
|
8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 캐소드부는 생성된 수소를 배출하는 제1 배출구를 구비하고, 상기 제1 배출구는 제1 수용액의 수면보다 위에 위치하는 이산화탄소 활용 시스템
|
9 |
9
제 1 항에 있어서,제1 수용 공간과 제1 수용액이 연통되는 제1 연결관을 구비하는 이산화탄소 처리부를 더 포함하고,상기 이산화탄소 처리부는 유입된 이산화탄소 중 이온화되지 않은 이산화탄소가 상기 캐소드부로 공급되지 않도록 하는 이산화탄소 활용 시스템
|
10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 처리부는,상기 이온화되지 않은 이산화탄소를 상기 이산화탄소 처리부 내의 제1 수용액과의 비중 차이를 이용하여 분리하는 이산화탄소 활용 시스템
|
11 |
11
제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 처리부는,상기 이온화되지 않은 이산화탄소를 이산화탄소 처리부 내의 제1 수용액의 수면 상부에서 수집하는 이산화탄소 활용 시스템
|
12 |
12
제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 처리부는,상기 이산화탄소 처리부 내의 제1 수용액의 수면보다 낮은 위치에 이산화탄소가 유입되는 유입구를 구비하고,상기 제1 연결관은 상기 유입구보다 낮은 위치에 구비되는 이산화탄소 활용 시스템
|
13 |
13
제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 처리부는 이산화탄소 처리부 내의 제1 수용액의 수면 상부에 이온화되지 않은 이산화탄소를 배출하는 제2 배출구를 구비하는 이산화탄소 활용 시스템
|
14 |
14
제 9 항에 있어서,상기 이산화탄소 처리부는 상기 제1 수용 공간의 제1 수용액으로부터 분리된 이온화되지 않은 이산화탄소를 상기 이산화탄소 처리부 내의 제1 수용액으로 공급하는 이산화탄소 순환 공급부를 더 포함하는 이산화탄소 활용 시스템
|
15 |
15
삭제
|
16 |
16
삭제
|
17 |
17
삭제
|
18 |
18
삭제
|
19 |
19
삭제
|
20 |
20
삭제
|
21 |
21
삭제
|
22 |
22
삭제
|
23 |
23
삭제
|
24 |
24
삭제
|
25 |
25
삭제
|