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피측정물이 기설정된 두께로 분할된 복수의 슬라이스들 중 하나의 슬라이스의 표면에, 기설정된 크기를 갖는 복수의 영역들(segments)을 구획하는 구획 단계;구획된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 이차원 이미지들을 생성하는 이차원 이미지 생성 단계;상기 생성된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 이차원 이미지들을 이용하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는 정량 위상 이미지 생성 단계; 상기 복수의 슬라이스들 중 상기 하나의 슬라이스 이외의 나머지 슬라이스들에 대해 상기 구획 단계 내지 상기 정량 위상 이미지 생성단계를 수행하여, 상기 나머지 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 생성하는 복수의 정량 위상 이미지 생성 단계; 및상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제1항에 있어서,상기 정량 위상 이미지 생성단계는,상기 이차원 이미지 생성단계에서 생성된 복수의 이차원 이미지들을, 상기 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들로 변환하는 단계; 및상기 변환된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제2항에 있어서,상기 구획 단계는,일 영역의 일부와 상기 일 영역과 이웃된 타 영역의 일부가 겹쳐지도록, 상기 복수의 영역들을 구획하는 단계;를 포함하며,상기 변환된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는 단계는,상기 일 영역과 상기 타 영역의 겹침 정도를 결정하는 단계;상기 결정된 겹침 정도에 따라 상기 일 영역에 대한 정량 위상 이미지와 상기 타 영역에 대한 정량 위상 이미지를 겹치는 단계; 및상기 구획된 모든 영역들 각각에 대해 상기 결정하는 단계 및 상기 겹치는 단계를 수행하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제1항에 있어서, 상기 복수의 정량 위상 이미지 생성 단계는, 상기 복수의 영역들 중 하나의 영역에 근적외선 빔을 투과시키는 단계;상기 하나의 영역을 투과한 근적외선 빔의 빔 직경(Beam Diameter)를 축소시키는 단계:상기 빔 직경이 축소된 근적외선 빔을 복수의 광 빔들로 분할하는 단계;상기 분할된 광 빔들 중 제1 광 빔의 고주파 성분을 공간 주파수 필터링을 통하여 제거하는 단계;상기 고주파 성분이 제거된 제1 광 빔과 상기 분할된 광 빔들 중 제2 광 빔의 간섭 무늬를 촬영하여 상기 하나의 영역에 대한 이차원 이미지를 생성하는 단계; 및상기 복수의 영역들 중 하나의 영역을 제외한 나머지 영역들 각각에 대해 상기 투과시키는 단계 내지 상기 하나의 영역에 대한 이차원 이미지를 생성하는 단계를 수행하여, 상기 구획된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 이차원 이미지들을 생성하는 단계;를 포함하는, 회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제1항에 있어서,상기 삼차원 영상을 생성하는 단계는,상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 적층하여 하나의 영상으로 병합하고, 상기 병합된 영상의 노이즈를 제거하여, 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제1항에 있어서,상기 삼차원 영상을 생성하는 단계는,상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 이용하여 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 광학적 파라미터 맵(Optical Parameter Map)들을 생성하는 단계; 및상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 광학적 파라미터 맵들을 재구성하여 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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제6항에 있어서,상기 광학적 파라미터 맵들을 생성하는 단계는,하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 구성하는 픽셀들 중 일부를 샘플링(Sampling) 하는 단계;상기 샘플링된 픽셀들의 픽셀값들을 상기 하나의 슬라이스의 광학적 특성을 나타내는 광학적 파라미터들로 변환하는 단계; 상기 변환된 광학적 파라미터들을 이용하여 상기 하나의 슬라이스에 대한 광학적 파라미터 맵을 생성하는 단계; 및상기 하나의 슬라이스를 제외한 나머지 슬라이스들에 각각에 대해 상기 샘플링 하는 단계 내지 상기 하나의 슬라이스의 광학적 파라미터 맵을 생성하는 단계를 수행하여, 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 광학적 파라미터 맵들을 생성하는 단계;를 포함하는,회절 위상 현미경 시스템의 동작 방법
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피측정물이 기설정된 두께로 분할된 복수의 슬라이스들 중 하나의 슬라이스가 표면에 놓이며, 상하 및 좌우 이동이 가능한 시료대;상기 하나의 슬라이스를 투과한 근적외선 빔을 회절시켜 복수의 광 빔들로 분할하는 회절격자;상기 분할된 광 빔들 중 제1 광 빔과 상기 분할된 광 빔들 중 제2 광 빔의 간섭 무늬를 촬영하여 이차원 이미지를 생성하는 촬영부; 및상기 시료대를 제어하는 제어부; 를 포함하며,상기 제어부는,상기 하나의 슬라이스의 표면에 기설정된 크기를 갖는 복수의 영역들을 구획하고,상기 시료대를 제어하여, 구획된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 이차원 이미지들을 생성하고,상기 생성된 모든 영역들 각각에 대한 이차원 이미지들을 이용하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하고,상기 복수의 슬라이스들 중 상기 하나의 슬라이스 이외의 나머지 슬라이스들에 대해, 상기 복수의 영역들을 구획하고, 상기 복수의 이차원 이미지들을 생성하고, 상기 정량 위상 이미지를 생성하여, 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 생성하고, 상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여, 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는,회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 제어부는,상기 생성된 모든 영역들 각각에 대한 이차원 이미지들을 이용하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성할 때, 상기 생성된 모든 영역들 각각에 대한 이차원 이미지들을, 상기 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들로 변환하고, 상기 변환된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는,회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 제어부는,상기 하나의 슬라이스의 표면에 기설정된 크기를 갖는 복수의 영역들을 구획할 때, 일 영역의 일부와 상기 일 영역과 이웃된 타 영역의 일부가 겹쳐지도록, 상기 복수의 영역들을 구획하며,상기 변환된 모든 영역들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 재구성하여, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성할 때,상기 일 영역과 상기 타 영역의 겹침 정도를 결정하고, 상기 결정된 겹침 정도에 따라 상기 일 영역에 대한 정량 위상 이미지와 상기 타 영역에 대한 정량 위상 이미지를 겹치며,상기 모든 영역들 각각에 대해 상기 겹침 정도를 결정하고, 상기 일 영역에 대한 정량 위상 이미지와 상기 타 영역에 대한 정량 위상 이미지를 겹쳐, 상기 하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 생성하는, 회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 제어부는,상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성할 때,상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 적층하여 하나의 영상으로 병합하고, 상기 병합된 영상의 노이즈를 제거하여, 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는,회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 제어부는,상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성할 때,상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 이용하여 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 광학적 파라미터 맵들을 생성하고,상기 생성된 모든 슬라이스들 각각에 대한 광학적 파라미터 맵들을 재구성하여 상기 피측정물에 대한 삼차원 영상을 생성하는,회절 위상 현미경 시스템
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제12항에 있어서,상기 제어부는,상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 정량 위상 이미지들을 이용하여 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 광학적 파라미터 맵들을 생성할 때,하나의 슬라이스에 대한 정량 위상 이미지를 구성하는 픽셀들 중 일부를 샘플링 하고,상기 샘플링된 픽셀들의 픽셀값들을 상기 하나의 슬라이스의 광학적 특성을 나타내는 광학적 파라미터들로 변환하고,상기 변환된 광학적 파라미터들을 이용하여 상기 하나의 슬라이스에 대한 광학적 파라미터 맵을 생성하고,상기 하나의 슬라이스를 제외한 나머지 슬라이스들 각각에 대해 상기 픽셀들 중 일부를 샘플링 하고, 상기 광학적 파라미터들로 변환하고, 상기 광학적 파라미터 맵을 생성하여, 상기 모든 슬라이스들 각각에 대한 복수의 광학적 파라미터 맵들을 생성하는,회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 회절 위상 현미경 시스템은,상기 시료대와 상기 회절격자 사이에 마련되며, 상기 하나의 슬라이스를 투과한 근적외선 빔의 빔 직경(Beam Diameter)을 축소시키는 렌즈부;를 더 포함하는,회절 위상 현미경 시스템
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제8항에 있어서,상기 회절 위상 현미경 시스템은,상기 회절격자와 상기 촬영부 사이에 마련되며,입사된 상기 제1 광 빔의 고주파 성분을 제거하여 출력하는 필터부;를 더 포함하는,회절 위상 현미경 시스템
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