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탄성 소재로 형성된 베이스층과;상기 베이스층 위에 적층되고 자성 소재로 형성되어, 자기장에 의하여 적어도 일부분이 웨이브(wave) 형상으로 변형되는 자성 반응층과;상기 자성 반응층 위에 적층되고, 나노 패턴이 형성된 나노 필름층과;상기 나노 필름층의 표면에 방오물질이 코팅되어 형성된 방오층과;상기 베이스층의 하측에 왕복 운동 가능하도록 구비되어, 상기 베이스층 주변의 자기장을 변화시켜 상기 자성 반응층의 표면 중 적어도 일부분을 상기 웨이브 형상으로 변형시키는 자기장 발생부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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청구항 1에 있어서,상기 자기장 발생부는,상기 베이스층의 하부에 구비되어, 상기 자기장을 발생시키는 자석부와, 상기 자석부를 왕복 운동시키는 구동부와,상기 구동부를 제어하여 상기 왕복 운동의 방향을 변화시켜, 상기 웨이브 형상으로 변형되는 위치가 변하도록 제어하는 제어부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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청구항 2에 있어서, 상기 제어부는,상기 자석부를 제어하여 상기 자기장의 세기를 변화시켜, 상기 웨이브 형상의 크기나 모양이 변하도록 제어하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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4
청구항 1에 있어서, 상기 나노 패턴은 복수의 나노 필러들을 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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5
청구항 4에 있어서,상기 나노 필러들은, 상기 자기장의 방향에 따라 움직이도록 자성 소재로 형성된 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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6
탄성 소재로 형성되어 중공의 관 형상으로 형성된 베이스층과;상기 베이스층의 내주면에 적층되고 자성 소재로 형성되어, 자기장에 의하여 적어도 일부분이 웨이브(wave) 형상으로 변형되는 자성 반응층과;상기 자성 반응층의 내주면에 적층되고, 나노 패턴이 형성된 나노 필름층과;상기 나노 필름층의 표면에 방오물질이 코팅되어 형성된 방오층과;상기 베이스층의 외주측에 왕복 운동 가능하도록 구비되어, 상기 베이스층 주변의 자기장을 변화시켜 상기 자성 반응층 중 적어도 일부분을 상기 웨이브 형상으로 변형시키는 자기장 발생부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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7
청구항 6에 있어서, 상기 베이스 층과 상기 자기장 발생부 사이에 구비되어, 상기 베이스 층이 상기 자기장 발생부를 향한 방향으로 변형되는 것을 방지하는 지지층을 더 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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8
청구항 6에 있어서,상기 자기장 발생부는,상기 베이스층의 외주면에 소정간격 이격되게 위치되도록 링 형상으로 형성되고, 자기장을 발생시키는 자석부와, 상기 베이스층의 길이 방향을 따라 상기 자석부를 왕복 운동시키는 구동부와,상기 구동부를 제어하여 상기 왕복 운동의 방향을 변화시켜, 상기 웨이브 형상으로 변형되는 위치가 변하도록 제어하는 제어부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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9
청구항 8에 있어서, 상기 제어부는,상기 자석부를 제어하여 상기 자기장의 세기를 변화시켜, 상기 웨이브 형상의 크기나 모양이 변하도록 제어하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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10
청구항 6에 있어서, 상기 나노 패턴은 복수의 나노 필러들을 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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11
청구항 10에 있어서,상기 나노 필러들은, 상기 자기장의 방향에 따라 움직이도록 자성 소재로 형성된 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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12
탄성 소재로 형성된 베이스층과;상기 베이스층 위에 적층되고 자성 소재로 형성되어, 자기장에 의하여 적어도 일부분이 웨이브(wave) 형상으로 변형되는 자성 반응층과;상기 자성 반응층 위에 적층되고, 상기 자기장의 방향에 따라 움직이는 복수의 자성 필러들이 형성된 나노 필름층과;상기 나노 필름층의 표면에 방오물질이 코팅되어 형성된 방오층과;상기 베이스층의 하측에 왕복 운동 가능하도록 구비되어, 상기 베이스층 주변의 자기장을 변화시켜 상기 자성 반응층의 표면 중 적어도 일부분을 상기 웨이브 형상으로 변형시키는 자기장 발생부를 포함하고, 상기 자기장 발생부는,상기 베이스층에서 소정간격 이격되게 배치되어, 상기 자기장을 발생시키는 자석부와, 상기 자석부를 왕복 운동시키는 구동부와, 상기 구동부를 제어하여 상기 왕복 운동의 방향을 변화시켜, 상기 웨이브 형상으로 변형되는 위치가 변하도록 제어하는 제어부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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13
지지층과;상기 지지층 위에 적층되고, 탄성 소재로 형성된 베이스층과;상기 베이스층 위에 적층되고 자성 소재로 형성되어, 자기장에 의하여 적어도 일부분이 웨이브(wave) 형상으로 변형되는 자성 반응층과;상기 자성 반응층 위에 적층되고, 나노 패턴이 형성된 나노 필름층과;상기 나노 필름층의 표면에 방오물질이 코팅되어 형성된 방오층과;상기 지지층의 하측에 왕복 운동 가능하도록 구비되어, 상기 지지층 주변의 자기장을 변화시켜 상기 자성 반응층의 표면 중 적어도 일부분을 상기 웨이브 형상으로 변형시키는 자기장 발생부를 포함하는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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14
청구항 13에 있어서,상기 자기장 발생부에 의해 발생된 자기장에 의해 상기 자성 반응층이 상기 웨이브 형상으로 변형되면, 상기 베이스층, 상기 나노 필름층 및 상기 방오층은 상기 자성 반응층과 일체로 변형되고, 상기 지지층은 형상이 유지되는 자기 반응 동적 표면을 활용한 방오 부재
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