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기판상에 블록공중합체를 도포하여 블록공중합체 박막을 얻는 단계;상기 블록공중합체 박막을 전단정렬 시키는 단계; 및상기 전단정렬된 블록공중합체를 용매증기 처리하는 단계; 를 포함하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 블록공중합체는,폴리스티렌-블록-폴리(2-비닐피리딘)(polystyrene-block-poly(2-vinylpyridine)), 폴리스티렌-블록-폴리(4-비닐피리딘)(polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine)), 폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리(2-비닐피리딘)(poly(methylmethacrylate)-block-poly(2-vinylpyridine)), 폴리스티렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트(polystyrene-block-poly(methylmethacrylate)), 및 폴리스티렌-블록-폴리디메틸실록산(polystyrene-block-polydimethylsiloxane)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 블록공중합체 박막은,평균 두께가 30 내지 70nm인 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 블록공중합체 박막을 전단정렬 시키는 단계는,블록공중합체 박막을 150 내지 190℃에서 5 내지 40 kPa의 전단응력을 가하여 전단정렬 시키는 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 전단정렬된 블록공중합체를 용매증기 처리하는 단계는,용매를 20 내지 40℃에서 1 내지 90분 동안 처리하는 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 5에 있어서,상기 용매는,테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 톨루엔(toluene), 및 클로로포름(chloroform)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 용매증기 처리는,상기 전단정렬된 블록공중합체를 팽창비 1
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청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,상기 2차원 육각배열의 구형 나노패턴은,결정구조를 갖는 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,상기 구형 나노패턴은,평균 30 내지 50 nm의 간격으로 평균 15 내지 25 nm 크기의 구형을 갖는 것을 특징으로 하는 2차원 육각배열의 구형 나노패턴 제조방법
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