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베이스층;상기 베이스층 상에 적층되는 중간층; 상기 중간층 상에 적층되고, 양각패턴과 음각패턴이 반복 형성되는 상부층;및상기 양각패턴 상에 형성되는 니들층;을 포함하고, 상기 음각패턴 상에서 형성되는 와류에 의해 상기 상부층 표면의 오염물질이 제거되는, 방오 부재
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제1항에 있어서,상기 중간층의 변형 깊이는 외력의 세기에 비례하고, 중간층의 두께에 반비례하는, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 중간층의 두께는 0
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 상부층 표면은 연속선(line)형, 불연속선(discontinuous line)형, 샤크렛(sharklet)형 및 샤크렛 유사(quasi-sharklet)형 중 어느 하나의 형태인, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 니들층의 두께는 10μm 내지 200μm인, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 니들층에 형성된 니들의 높이는 100nm 내지 500nm이고, 니들의 하부 지름은 100nm 내지 300nm이고, 니들의 상부 지름은 1nm 내지 100nm 인, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 베이스층은 플렉서블 폴리에틸렌 테레프타레이트(flexible Polyethylene terephthalate(PET)), 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리우레탄 아크릴레이트(Poly urethane acrylate, PUA) 중 하나 이상으로 이루어진, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 중간층은 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS), 실리콘 오일(Silicone oil), 오르가노겔(organogel), 에코플렉스(ecoflex), 트릭톤 X(Triton X) 및 하이드로겔(hydrogel) 중 하나 이상으로 이루어진, 방오 부재
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 상부층은 폴리우레탄 아크릴레이트(Poly urethane acrylate, PUA) 또는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS)으로 이루어진, 방오 부재
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10
베이스층 상에 중간층을 적층하는 단계;양각패턴과 음각패턴이 반복 형성되는 상부층을 상기 중간층 상에 적층하는 단계; 및상기 양각패턴 상에 니들층을 형성하는 단계;를 포함하는, 제1항의 방오 부재를 제조하는 방법
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11
제10항에 있어서,상기 중간층은, 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS), 실리콘 오일(Silicone oil), 오르가노겔(organogel), 에코플렉스(ecoflex), 트릭톤 X(Triton X) 및 하이드로겔(hydrogel) 중 하나 이상으로 이루어진, 방오 부재를 제조하는 방법
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