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일표면에 미세 패턴이 형성되어 있는 베이스 부재;상기 미세 패턴 상에 돌출되게 형성되고, 복수 개가 상호 이격되게 배치되며, 자기장에 의하여 방향 조절이 가능한 미세 구조물들;상기 미세 구조물의 표면에 형성되어 배치되어 있는 나노 입자들; 및자기장을 발생시켜 상기 미세 구조물들의 일부 또는 전체를 움직이게 하는 자기장 발생부를 포함하고,상기 자기장 발생부의 극성변화를 통하여 상기 자기장의 방향을 변화시켜 상기 미세 구조물의 기울어짐 각도를 조절함으로써, 상기 나노 입자들 상에 접촉하는 물질의 부착을 변화시키며,상기 베이스 부재 및 상기 미세 패턴은,자성을 갖는 마그네틱 입자, 표면에 빛을 조사했을 때 표면의 온도를 상승시키는 광열입자 및 플렉서블한 수지의 혼합물로 형성되며,상기 미세 구조물은,미세 섬모로 형성되되,자성을 갖는 마그네틱 입자, 표면에 빛을 조사했을 때 표면의 온도를 상승시키는 광열입자 및 플렉서블한 수지의 혼합물로 형성되는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 미세 구조물들은,마이크로 구조 또는 나노 구조로 형성되는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 미세 섬모는 원뿔 형상을 갖는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 마그네틱 입자는,카르보닐 철(carbonyl iron), 금(Au), 크롬(Cr), 티타늄(Ti) 및 니켈(Ni) 중 단일 금속 또는 두 종류 이상의 합금으로 형성되는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 자기장 발생부로부터 발생되는 자기장의 방향을 조절하여 상기 미세 구조물이 상기 자기장 발생부의 자기장에 따라 움직이도록 하는 제어부를 더 포함하는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 베이스 부재는 플레이트 형상을 가지고,상기 베이스 부재는 복수 개의 가상의 구역들로 구획되고,상기 자기장 발생부는,상면이 상기 베이스 부재의 타표면에 배치되며, 상기 복수 개의 가상의 구역들마다 대응되도록 배치되는 자석들을 더 포함하는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 11에 있어서,상기 베이스 부재의 타표면에 배치되고, 내부 공간에 상기 자석들이 배치되는 케이스를 더 포함하는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 11에 있어서,상기 자석들은,상기 자석들 각각이 속한 상기 구역들 내에서 회전 또는 평행이동 하면서 상기 미세 구조물에 작용하는 자기장을 변화시키는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 자기장 발생부는,극성변화를 통하여 상기 나노 입자들 상에 접촉하는 물질이 상기 미세 구조물들과 이루는 각도가 15도 내지 60도가 되도록 상기 미세 구조물의 기울어진 각도를 조절하는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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일표면에 미세 패턴이 형성되어 텍스처 구조를 갖는 베이스 부재;상기 베이스 부재의 일표면 중에서 상기 미세 패턴이 형성되어 있는 부분에서는 상기 미세 패턴 상에 돌출되게 배치되고, 상기 미세 패턴이 형성되어 있는 부분 외의 부분에서는 상기 베이스 부재의 일표면에 직접 돌출되게 배치되되, 각각의 부분에서 복수 개가 상호 이격되게 배치되며, 자기장에 의하여 방향 조절이 가능한 원뿔 형상의 미세 섬모들;상기 미세 섬모들의 표면에 배치되어 있는 나노 입자들; 및자기장을 발생시켜 상기 미세 섬모들의 일부 또는 전체를 움직이게 하는 자석을 포함하고,상기 자석의 회전 또는 평행이동에 따른 극성변화를 통하여 상기 자석에 의해 형성되는 자기력선의 방향을 변화시키고, 상기 변화된 자기력선의 방향에 따라 상기 미세 섬모들의 기울어지는 각도를 조절함으로써, 상기 나노 입자들 상에 접촉하는 물질의 부착을 변화시키며,상기 베이스 부재 및 상기 미세 패턴은,자성을 갖는 마그네틱 입자, 표면에 빛을 조사했을 때 표면의 온도를 상승시키는 광열입자 및 플렉서블한 수지의 혼합물로 형성되며,상기 미세 섬모는,자성을 갖는 마그네틱 입자, 표면에 빛을 조사했을 때 표면의 온도를 상승시키는 광열입자 및 플렉서블한 수지의 혼합물로 형성되는,방수, 방빙 및 방오 기능을 갖는 장치
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